发明名称 | 金属的表面处理剂 | ||
摘要 | 本发明的课题在于提供一种可以耐热性、树脂粘结性、焊料润湿性提高了的表面处理剂。本发明通过提供下述表面处理剂而解决了上述课题,即,一种金属的表面处理剂,其特征在于,含有下述通式所示的四唑衍生物和/或其盐,(式中,R<SUB>1</SUB>、R<SUB>2</SUB>各自独立地表示氢原子,卤原子,碳原子数10以下的烷基、芳基等,或在这些基团上加成卤原子、羟基、羧基、氨基、巯基而成的基团,或者,氨基,巯基,羟基,羧基;R<SUB>3</SUB>表示键或者碳原子数10以下的亚烷基等,或者在这些基团上加成卤原子、羟基、羧基、氨基、巯基、偶氮基(-N=N-)、硫基(-S-)、二硫基(-S-S-)而成的基团,或者偶氮基、硫基、二硫基)。还提供一种金属的表面活性剂,其特征在于,进一步含有金属或金属化合物。 | ||
申请公布号 | CN1914356A | 申请公布日期 | 2007.02.14 |
申请号 | CN200580003987.1 | 申请日期 | 2005.01.21 |
申请人 | 日矿金属株式会社 | 发明人 | 相场玲宏;三村智晴 |
分类号 | C23F11/14(2006.01) | 主分类号 | C23F11/14(2006.01) |
代理机构 | 北京市中咨律师事务所 | 代理人 | 段承恩;田欣 |
主权项 | 1.一种金属的表面处理剂,其特征在于,含有下述通式所示的四唑衍生物和/或其盐,<img file="A2005800039870002C1.GIF" wi="674" he="365" />式中,R<sub>1</sub>、R<sub>2</sub>各自独立地表示氢原子,卤原子,碳原子数10以下的烷基、链烯基、链炔基、芳基、芳烷基、苄基,或在这些基团上加成卤原子、羟基、羧基、氨基、巯基而成的基团,或者,氨基,巯基,羟基,羧基;R<sub>3</sub>表示键或者碳原子数10以下的亚烷基、亚链烯基、亚链炔基、亚芳基、亚芳烷基,或者在这些基团上加成卤原子、羟基、羧基、氨基、巯基、偶氮基、硫基、二硫基而成的基团,或者偶氮基(-N=N-),硫基(-S-),二硫基(-S-S-)。 | ||
地址 | 日本东京都 |