| 发明名称 | 基板处理装置的处理室净化方法、基板处理装置和基板处理方法 | ||
| 摘要 | 每次净化在处理室内容纳被处理基板，对所述被处理基板实施规定的处理的基板处理装置的处理室时，交替实施在处理室内形成包含氧元素的气体的等离子体的工序和在处理室内形成包含氮元素的气体的等离子体的工序。 | ||
| 申请公布号 | CN1914716A | 申请公布日期 | 2007.02.14 |
| 申请号 | CN200580003402.6 | 申请日期 | 2005.01.27 |
| 申请人 | 东京毅力科创株式会社 | 发明人 | 石塚修一;佐佐木胜;高桥哲朗;前川浩治 |
| 分类号 | H01L21/31(2006.01);H01L21/3065(2006.01) | 主分类号 | H01L21/31(2006.01) |
| 代理机构 | 北京纪凯知识产权代理有限公司 | 代理人 | 龙淳 |
| 主权项 | 1.一种基板处理装置的处理室净化方法，在处理室内容纳被处理基板，并对所述被处理基板实施规定的处理，其特征在于：使得在所述处理室内形成包含氧的气体的等离子体的工序和在所述处理室内形成包含氮的气体的等离子体的工序交替实施至少一个循环。 | ||
| 地址 | 日本东京 | ||