| 发明名称 | 微平版印刷投影曝光装置的投影物镜 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种微平版印刷投影曝光装置的投影物镜。该微平版印刷投影曝光装置(110)的投影物镜是为其中浸渍液(134)与感光层(126)邻接的浸渍操作而设计的。浸渍液的折射率大于在投影物镜(120；120’；120”)的物体侧与浸渍液相邻的介质(L5；142；L205；LL7；LL8；LL9)的折射率。投影物镜设计成在浸渍操作期间浸渍液(134)朝物面(122)凸出地弯曲。 | ||
| 申请公布号 | CN1914563A | 申请公布日期 | 2007.02.14 |
| 申请号 | CN200480041615.3 | 申请日期 | 2004.12.27 |
| 申请人 | 卡尔蔡司SMT股份有限公司 | 发明人 | B·尼尔;N·瓦布拉;T·格鲁纳;A·艾普勒;S·贝德;W·辛格 |
| 分类号 | G03F7/20(2006.01) | 主分类号 | G03F7/20(2006.01) |
| 代理机构 | 北京市中咨律师事务所 | 代理人 | 吴鹏;马江立 |
| 主权项 | 1.一种微平版印刷投影曝光装置(110)的投影物镜，该投影物镜用于使设置在该投影物镜(120；120’；120”)的物面(122)内的掩模(124)在设置在该投影物镜的像面(128)内的感光层(126)上成像，其中该投影物镜(120；120’；120”)是为其中浸渍液与感光层(126)邻接的浸渍操作设计的，并且浸渍液的折射率大于在物体侧与该浸渍液邻接的介质(L5；142；L205；LL7；LL8；LL9)的折射率，其特征在于，该投影物镜(120；120’；120”)设计成使得在浸渍操作期间所述浸渍液(134)朝所述物面(122)凸出地弯曲。 | ||
| 地址 | 德国上科亨 | ||