| 发明名称 | 半导体装置及其制造方法 | ||
| 摘要 | 本发明涉及半导体装置及其制造方法。半导体装置具备形成多条配线的导体层和在与导体层的多条配线重叠的区域中被形成的焊片。配线的一部分与焊接合，另一方面，在配线的其它部分和焊片之间形成绝缘性的保护膜。至少与焊片重叠的区域内的上述配线上的保护膜与相邻的配线上的保护膜架桥。这样，由于配线上的保护膜变成桥接形状，因此，在保护膜的下部难以产生裂缝。另外，由于在架桥的部分的下面被形成的空孔部分作为空气弹簧而起作用，因此能防止损伤在保护膜的下面所形成的配线等构成要素。另外，由于不需要作为冲击缓冲材料的聚酰亚胺膜，因此能防止作业效率的下降和芯片成本的上升。 | ||
| 申请公布号 | CN1300846C | 申请公布日期 | 2007.02.14 |
| 申请号 | CN200310114993.7 | 申请日期 | 2003.11.14 |
| 申请人 | 夏普株式会社 | 发明人 | 赤川正文;堀尾正弘 |
| 分类号 | H01L23/48(2006.01);H01L23/52(2006.01);H01L21/768(2006.01);H01L21/28(2006.01);H01L21/60(2006.01) | 主分类号 | H01L23/48(2006.01) |
| 代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人 | 罗亚川 |
| 主权项 | 1、一种半导体装置，它具备形成了多条配线(7a～7c)的导体层(7)和在与该导体层(7)的多条配线(7a～7c)重叠的区域上被形成的焊片(14)，其特征在于，所述配线的一部分(7a)与焊片(14)接合，另一方面，在上述配线的其它部分(7b、7c)和焊片(14)之间形成绝缘性的保护膜(8)，至少在与焊片(14)重叠的区域内，所述保护膜(8)桥接上述配线的其它部分(7b、7c)中的相邻配线。 | ||
| 地址 | 日本大阪府 | ||