| 发明名称 | 基板处理方法及其装置 | ||
| 摘要 | 一种利用含有硫酸和双氧水的处理液来处理基板的基板处理方法，上述方法包括以下步骤：第一生成过程，其将纯水与硫酸混合，生成规定浓度的稀硫酸；第二生成过程，其将由上述第一生成过程生成的稀硫酸和双氧水混合，生成处理液；处理过程，其在收容基板的处理部内，通过由上述第二生成过程生成的处理液来处理基板。 | ||
| 申请公布号 | CN1913108A | 申请公布日期 | 2007.02.14 |
| 申请号 | CN200610108747.4 | 申请日期 | 2006.08.10 |
| 申请人 | 大日本网目版制造株式会社 | 发明人 | 高桥弘明 |
| 分类号 | H01L21/306(2006.01);H01L21/00(2006.01) | 主分类号 | H01L21/306(2006.01) |
| 代理机构 | 隆天国际知识产权代理有限公司 | 代理人 | 徐恕 |
| 主权项 | 1.一种利用含有硫酸和双氧水的处理液处理基板的基板处理方法，其特征在于，包括：第一生成过程，其将纯水与硫酸混合，生成规定浓度的稀硫酸；第二生成过程，其将由上述第一生成过程生成的稀硫酸和双氧水混合，生成处理液；处理过程，其在收容基板的处理部内，通过由上述第二生成过程生成的处理液来处理基板。 | ||
| 地址 | 日本京都府 | ||