发明名称 | 根据掩模布置自动生成结构的方法 | ||
摘要 | 一种计算机模拟的根据掩模布置来限定三维结构的方法,该方法提供了用于限定液晶单元的三维结构的技术,其包括用于设计和分析液晶显示器装置的液晶显示器装置。一种生成在上基板与下基板之间包括多个材料层的三维结构的方法,该方法通过以下步骤提供了一种计算机模拟的三维结构生成方法:在上基板下方和下基板上方淀积材料层;针对基板的包括材料层的倾斜结构的情况,在所淀积的上材料层与下材料层之间夹入插入层。 | ||
申请公布号 | CN1914614A | 申请公布日期 | 2007.02.14 |
申请号 | CN200480041360.0 | 申请日期 | 2004.05.19 |
申请人 | 株式会社萨纳伊系统 | 发明人 | 元太映;尹相镐 |
分类号 | G06F17/50(2006.01) | 主分类号 | G06F17/50(2006.01) |
代理机构 | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人 | 李辉 |
主权项 | 1、一种使用掩模布置的输入数据通过计算机模拟来限定在上基板与下基板之间包括多个材料层的三维结构的方法,其中,尤其是当所述多个材料层中的至少一个具有不平行于上基板和下基板并且向基面倾斜的倾斜区域时,在所述计算机模拟过程中通过以下步骤来限定所述三维结构:在充当基准平面的上基板和下基板上分别淀积材料层,并且在其上具有材料层的彼此面对的上基板与下基板之间夹入中间插入层,所述倾斜区域称为“倾斜材料层”。 | ||
地址 | 韩国仁川广域市 |