发明名称 | 测量双折射单轴晶体波片厚度的装置 | ||
摘要 | 一种测量双折射单轴晶体波片厚度的装置,其特征在于包括一输出平行光束的白光光源,在该白光光源输出光束的前进方向同光轴线地依次是限束光阑、起偏器、检偏器、分束镜、光谱仪,所述的检偏器固定在第二角度转动台上,在所述的起偏器和检偏器之间设有供放置待测波片的第一角度转动台,在所述的分束镜的反射光方向有一光强度监视器,所述的光谱仪的输出端与计算机的输入端相连。本实用新型装置使用方便,经试用证明其测量精度高,厚度测量误差可优于0.1μm。 | ||
申请公布号 | CN2869774Y | 申请公布日期 | 2007.02.14 |
申请号 | CN200520045365.2 | 申请日期 | 2005.09.28 |
申请人 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 发明人 | 林礼煌;冯伟伟;欧阳斌 |
分类号 | G01B11/06(2006.01) | 主分类号 | G01B11/06(2006.01) |
代理机构 | 上海新天专利代理有限公司 | 代理人 | 张泽纯 |
主权项 | 1、一种测量双折射单轴晶体波片厚度的装置,其特征在于包括一输出平行光束的白光光源(1),在该白光光源(1)输出光束的前进方向同光轴线地依次是限束光阑(2)、起偏器(3)、检偏器(6)、分束镜(8)、光谱仪(10),所述的检偏器(6)固定在第二角度转动台(7)上,在所述的起偏器(3)和检偏器(6)之间设有供放置待测波片(4)的第一角度转动台(5),在所述的分束镜(8)的反射光方向有一光强度监视器(9),所述的光谱仪(10)的输出端与计算机(11)的输入端相连。 | ||
地址 | 201800上海市800-211邮政信箱 |