发明名称 Refurbishing spent sputtering targets
摘要 Spent sputtering targets are refurbished by filling the depleted region of the target with new sputter material using a hot isostatic pressing or HIP'ing technique.
申请公布号 US7175802(B2) 申请公布日期 2007.02.13
申请号 US20020243948 申请日期 2002.09.16
申请人 HERAEUS, INC. 发明人 SANDLIN MICHAEL;ZHANG WENJUN;KUNKEL BERND
分类号 C23C14/34;B22F7/00;B22F7/06;G11B5/851 主分类号 C23C14/34
代理机构 代理人
主权项
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