| 主权项 |
1.一种气体反应成分的供给控制方法,其特征为:系 经由供给管线,由气体供给系统对于加压反应系统 连续地供给气体反应成分,且使反应系统的剩余气 体反应成分,经由循环管线,由上述供给管线循环 至反应系统者;且根据反应系统的气相压力变动, 控制来自于上述气体供给系统的气体反应成分供 给流量,以上述供给管线使气体反应成分以特定的 基准流量下,供给至反应系统。 2.如申请专利范围第1项之气体反应成分的供给控 制方法,其中使经由供给管线与循环管线滙合的气 体反应成分,以反应系统的基准消耗流量FCS,与比 反应系统的变动消耗流量Fcv超出过剩流量F1的 总和,所界定的基准流量F下,连续地供给至反应系 统。 3.如申请专利范围第1项之气体反应成分的供给控 制方法,其中以来自于气体供给系统的气体反应成 分供给量,来相抵或吸收反应系统的气体反应成分 的消耗量变动。 4.如申请专利范围第1项之气体反应成分的供给控 制方法,其中根据反应系统的气相压力变动,控制 循环管线的反应成分循环流量,且根据气体供给系 统的气相压力变动,控制来自于气体供给系统的气 体反应成分供给流量,以供给管线使气体反应成分 以特定的基准流量下供给至反应系统。 5.如申请专利范围第1项之气体反应成分的供给控 制方法,其中包含:使醇连续地供给至含羰基化催 化剂系的液相加压反应系统的步骤,使一氧化碳以 一次供给管线供给至压缩机的步骤,使经上述压缩 机加压的一氧化碳以基准流量F下,经由二次供给 管线连续地供给至上述反应系统的步骤,以及经由 自上述二次供给管线分支的循环管线,使反应系统 的剩余一氧化碳滙合至上述一次供给管线的步骤; 且经由上述二次供给管线,对于上述反应系统以反 应系统的基准消耗流量FCS,与比反应系统的变动消 耗流量Fcv,超出过剩流量F1的总和,所界定的基准 流量F,连续地供给由一次供给管线与循环管线滙 合的一氧化碳,并应答至上述反应系统的气相压力 变动,使上述循环管线的一氧化碳流量,控制于上 述过剩流量F1与对应至变动消耗流量Fcv的流量 的总循环流量Fr,同时应答至气体供给系统的气相 压力变动,使由气体供给系统对于一次供给管线的 一氧化碳流量,控制于上述基准消耗流量FCS,与对 应至上述变动消耗流量Fcv的流量的总补给流量 FSU,以来自于一次供给管线的一氧化碳,调整在二 次供给管线的相对于基准流量F的一氧化碳的过量 与不足,而藉由上述反应系统的羰基 化反应连续地生成羧酸。 6.如申请专利范围第1项之气体反应成分的供给控 制方法,其中反应系统为藉由一氧化碳与C1-4醇或 其衍生物的反应,而生成羧酸或其衍生物的加压反 应系统。 7.如申请专利范围第1项之气体反应成分的供给控 制方法,其中反应系统为在羰基化反应催化剂的存 在下,使甲醇与一氧化碳以液相进行反应,以生成 醋酸或其衍生物的液相加压反应系统。 8.一种气体反应成分的供给控制装置,其特征为具 有:供给管线,用以对加压反应系统供给气体反应 成分;供给单元,用以对该供给管线供给气体反应 成分;加压设备,设在上述供给管线,用以加压来自 于供给单元的气体反应成分;循环管线,用以使上 述反应系统的剩余气体反应成分循环至反应系统; 以及控制单元,用以根据上述反应系统的气相压力 变动,而控制在上述循环管线的气体反应成分流量 ,且控制由供给单元对于供给管线的气体反应成分 供给量,使气体反应成分以特定的基准流量下,由 供给管线供给至反应系统。 9.如申请专利范围第8项之气体反应成分的供给控 制装置,其中具有:第一压力感测器,用以检测上述 反应系统的气相压力;第一流量控制单元,用以控 制上述循环管线的一氧化碳流量;第二压力感测器 ,用以检测于加压设备上游侧的气相压力变动;第 二流量控制单元,用以应答至来自于该第二压力感 测器的检测讯号,而控制供给管线的气体反应成分 流量。 10.如申请专利范围第8项之气体反应成分的供给控 制装置,其中具有:一次供给管线,用以使气体反应 成分供给至加压反应系统、二次供给管线,用以使 经由上述压缩机加压的一氧化碳,连续地供给至加 压反应系统,以及循环管线,由该二次供给管线分 支,且用以使上述反应系统的剩余一氧化碳滙合于 上述一次供给管线;且系用以经由上述二次供给管 线,使由一次供给管线与循环管线滙合的一氧化碳 ,以反应系统的基准消耗流量FCS,与比反应系统的 变动消耗流量Fcv超出过剩流量F1的总和,所界定 的基准流量F,连续地供给至反应系统者;且也具有: 第一压力感测器,用以检测上述反应系统的气相压 力;第一流量控制单元,用以控制上述循环管线的 一氧化碳流量;第二压力感测器,其能检测一次供 给管线的压力;第二流量控制单元,用以控制上述 一次供给管线的一氧化碳流量;以及控制单元,用 以应答至来自于上述第一压力感测器的检测讯号, 而驱动第一流量控制单元,使上述循环管线的一氧 化碳流量,控制于上述过剩流量F1与对应至变动消 耗流量Fcv的流量的总循环流量Fr,应答至来自于 上述第二压力感测器的检测讯号,而驱动第二流量 控制单元,使由气体供给系 统对于一次供给管线的一氧化碳流量,控制于上述 基准消耗流量FCS,与对应至上述变动消耗流量Fcv 的流量的总补给流量FSU,以使二次供给管线的相对 于上述基准流量F的一氧化碳的过量与不足部分, 以来自于一次供给管线的一氧化碳来调整。 11.如申请专利范围第8项之气体反应成分的供给控 制装置,其中用以对一次供给管线供给一氧化碳的 供给单元系具有:精制单元,用以储存液体一氧化 碳;第二流量控制单元,用以控制该精制单元的一 氧化碳流量;气体生成单元,用以经由该流量控制 单元控制的流量,从液体一氧化碳生成气体一氧化 碳;缓冲槽,用以储存经该气体生成单元生成的气 体一氧化碳;以及第二压力感测器,用以检测该缓 冲槽或一次供给管线的压力变动;且应答至来自于 第二压力感测器的检测讯号,控制单元,即控制依 上述第二流量控制单元的液体一氧化碳的流量,调 整相对于在二次供给管线的基准流量F的过量与不 足部分的一氧化碳。 12.如申请专利范围第10或11项之气体反应成分的供 给控制装置,其中在用以使经由一氧化碳制造厂制 造的一氧化碳,供给至羰基化厂的加压羰基化反应 系统的装置中,根据在羰基化厂的反应系统压力变 动,而控制来自于一氧化碳制造厂的一氧化碳供给 量。 图式简单说明: 第1图系用以说明本发明的控制方法及控制装置的 制程流程图。 第2图系用以说明第1图的控制装置的流程图。 第3图系用以说明实施例及比较例的制程流程图。 |
