发明名称 化合物半导体粒子及其制造方法
摘要 本发明之目的在提供可在发光强度、发光效率等化合物半导体特有之机能中,发挥更具有优良性能的化合物半导体粒子,及如此之化合物半导体粒子的可经济地高生产力制造且易于获得之方法。本发明之化合物半导体粒子,其特征为:具备:选自C、Si、Ge、Sn、Pb、N、P、As、Sb、S、Se及Te所成群之至少一种元素X,及与该元素X非同一之至少一种金属元素M为必要元素组合而成之化合物半导体所成之本体粒子,其粒径不及1微米,其表面被覆以结合有醯氧基之金属氧化物。
申请公布号 TWI273091 申请公布日期 2007.02.11
申请号 TW092123059 申请日期 2003.08.21
申请人 小林正和;触媒股份有限公司 发明人 小林正和;武田光生
分类号 C01G1/02(2006.01) 主分类号 C01G1/02(2006.01)
代理机构 代理人 林志刚 台北市中山区南京东路2段125号7楼
主权项 1.一种化合物半导体粒子之制造方法,其特征为: 将含金属羧酸盐、醇及化合物半导体所成粒子之 混合物,或含具金属烷氧基之化合物,具羧基之化 合物及化合物半导体所成粒子之混合物藉加热及/ 或磨碎,以金属氧化物被覆上述粒子之表面。 2.如申请专利范围第1项之化合物半导体粒子之制 造方法,其中上述化合物半导体所成之粒子,系将 化合物半导体粗粒予以磨碎加以细粒化而得之粒 子。 3.一种化合物半导体粒子之制造方法,其特征为:包 含:将化合物半导体粗粒磨碎所得粒径不及1微米 之粒子的过程,以及以金属氧化物被覆所得粒子表 面之过程。 4.一种化合物半导体粒子,其特征为具备:以选自C 、Si、Ge、Sn、Pb、N、P、As、S、Sb、Se及Te所成群之 至少一种元素,及与该元素X非同一之至少一种金 属元素M为必要元素组合而成之化合物半导体所成 本体粒子;其粒径不及1微米,其表面被覆以结合有 醯氧基之金属氧化物。 5.如申请专利范围第4项之化合物半导体粒子,其中 上述本体粒子系,以选自C、Si、Ge、Sn、Pb、N、P、 As、Sb、S、Se及Te所成群之至少一种元素X,及与该 元素X非同一之至少一种金属元素M为必要元素组 合而成之化合物半导体粗粒经磨碎而得。 图式简单说明: 第1图系实施例1得之粒径约19奈米的CdSe微粒之TEM 电子显微镜照片。 第2图系实施例2得之粒径约19奈米或10奈米以下之 CdSe微粒的TEM电子显微镜照片。 第3图系实施例7得之CdSe微粒的TEM电子显微镜照片 。 第4图系实施例7得之CdSe微粒以能量分散型X线分析 法作元素分析之结果。(a)系Zn元素之分布,(b)系Zn 元素及Cd元素之分布。
地址 日本