发明名称 导光板及面光源装置
摘要 本发明系关于一种导光板及面光源装置。该导光板包括一基体及一透明薄膜,该基体包括一光入射面、一光出射面及一底面。该透明薄膜设置于该光出射面上,其中该透明薄膜为凹形结构,其厚度系自中间部份向边缘处逐渐增加,该透明薄膜之折射率大于该基体之折射率。该导光板及采用该导光板之面光源装置之出光辉度以中间部份最高,从而具有良好之视觉效果。
申请公布号 TWI273293 申请公布日期 2007.02.11
申请号 TW092114082 申请日期 2003.05.23
申请人 鸿海精密工业股份有限公司 发明人 吕昌岳;余泰成;蔡坤荣
分类号 G02B6/00(2006.01);G02F1/1335(2006.01) 主分类号 G02B6/00(2006.01)
代理机构 代理人
主权项 1.一种导光板,其包括: 一基体,用于传输光线,其包括: 至少一光入射面,用于接收光线; 一光出射面,用于出射光线; 一底面,与该光出射面相对设置; 一透明薄膜,设置于该光出射面上; 其中,该透明薄膜为具一凹陷部份之凹形结构,其 厚度系自中间部份向边缘处逐渐增加且该透明薄 膜之折射率大于该基体之折射率。 2.如申请专利范围第1项所述之导光板,其中该透明 薄膜为聚甲基丙烯酸树脂类材料,其折射率介于1. 507至1.570之间。 3.如申请专利范围第1项所述之导光板,其中该透明 薄膜之凹陷部份为倒正四棱锥体。 4.如申请专利范围第1项所述之导光板,其中该透明 薄膜之凹陷部份之表面为二次曲面。 5.如申请专利范围第1项所述之导光板,其中该基体 内掺杂复数散射粒子,该散射粒子为二氧化矽或五 氧化二钽。 6.如申请专利范围第1项所述之导光板,其中该导光 板进一步包括设置于底面上之复数散射单元。 7.如申请专利范围第1项所述之导光板,其中该基体 为平板形或楔形。 8.如申请专利范围第1项所述之导光板,其中该导光 板基体之材料为PMMA,其折射率为1.49。 9.一种面光源装置,其包括: 至少一光源; 一导光板,其包括: 一基体,用于传输光线,其包括至少一用于接收光 线之光入射面、一用于出射光线之光出射面及一 与该光出射面相对设置之底面; 一透明薄膜,设置于该光出射面上; 其中,该透明薄膜为具一凹陷部份之凹形结构,其 厚度系自中间部份向边缘处逐渐增加且该透明薄 膜之折射率大于该基体之折射率。 10.如申请专利范围第9项所述之面光源装置,其中 该透明薄膜为聚甲基丙烯酸树脂类材料,其折射率 介于1.507至1.570之间。 11.如申请专利范围第9项所述之面光源装置,其中 该透明薄膜凹陷部份为倒正四棱锥体。 12.如申请专利范围第9项所述之面光源装置,其中 该透明薄膜凹陷部份之表面为二次曲面。 13.如申请专利范围第9项所述之面光源装置,其中 该基体内掺杂复数散射粒子,该散射粒子为二氧化 矽或五氧化二钽。 14.如申请专利范围第9项所述之面光源装置,其中 该导光板进一步包括设置于底面上之复数散射单 元。 15.如申请专利范围第9项所述之面光源装置,其中 该基体为平板形或楔形。 16.如申请专利范围第9项所述之面光源装置,其中 该导光板基体之材料为PMMA,其折射率为1.49。 17.如申请专利范围第9项所述之面光源装置,其进 一步包括一相对底面设置之反射板,用于反射自底 面出射之光线。 18.如申请专利范围第9项所述之面光源装置,其进 一步包括一扩散板及一棱镜板。 图式简单说明: 第一图系先前技术导光板之剖面示意图。 第二图系另一先前技术导光板之剖面示意图。 第三图系本发明导光板第一实施方式剖面图。 第四图系本发明导光板散射单元于底面之分布示 意图。 第五图系本发明导光板之光路图。 第六图系本发明导光板辉度分布图。 第七图系本发明导光板第二实施方式剖面图。 第八图系本发明面光源装置之示意图。
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