发明名称 影像感测器之玻璃覆晶封装构造
摘要 一种影像感测器之玻璃覆晶封装构造,主要包含一玻璃基板、一影像感测器晶片以及一点涂胶体。该影像感测器晶片之一主动面系包含一光感测区,该玻璃基板系具有一可环绕该光感测区之密闭挡环,且在该影像感测器晶片之主动面上系设置有复数个可变形凸块,当该些可变形凸块接合至该玻璃基板之连接垫时,能缩小影像感测器晶片与玻璃基板之间的间隙,以使该密闭挡环更易于阻挡该点涂胶体流入该影像感测器晶片之光感测区,确保良好点胶效果。
申请公布号 TWI273686 申请公布日期 2007.02.11
申请号 TW095110299 申请日期 2006.03.24
申请人 南茂科技股份有限公司;百慕达南茂科技股份有限公司 CHIPMOS TECHNOLOGIES (BERMUDA) LTD. 百慕达 发明人 黄祥铭;刘安鸿;李宜璋;吕良田;林勇志
分类号 H01L23/28(2006.01);H01L23/48(2006.01) 主分类号 H01L23/28(2006.01)
代理机构 代理人 许庆祥 高雄市苓雅区新光路24巷31号
主权项 1.一种影像感测器之玻璃覆晶封装构造,包含: 一玻璃基板,其系具有复数个连接垫以及一密闭挡 环; 一影像感测器晶片,其系设于该玻璃基板上,该影 像感测器晶片系具有一主动面,该主动面系包含一 光感测区,并于该主动面上设置有复数个可变形凸 块(deformable bumps),以接合至该些连接垫;以及 一点涂胶体,其系形成于该玻璃基板上并局部填充 在该玻璃基板与该影像感测器晶片之间,以包覆该 些可变形凸块; 其中,该密闭挡环系环绕于该光感测区之外,以阻 挡该点涂胶体流入该光感测区内。 2.如申请专利范围第1项所述之影像感测器之玻璃 覆晶封装构造,其中该点涂胶体系为具有固化收缩 性之非导电胶(NCP)。 3.如申请专利范围第1或2项所述之影像感测器之玻 璃覆晶封装构造,其中该些可变形凸块所产生之变 形使该密闭挡环接触该影像感测器晶片之该主动 面。 4.如申请专利范围第3项所述之影像感测器之玻璃 覆晶封装构造,其中该些可变形凸块之变形量约为 百分五十。 5.如申请专利范围第1项所述之影像感测器之玻璃 覆晶封装构造,其中该些可变形凸块于变形后之高 度系小于该些连接垫之厚度。 6.如申请专利范围第1项所述之影像感测器之玻璃 覆晶封装构造,其中该玻璃基板与该影像感测器晶 片之间的间隙系介于10-22微米。 7.如申请专利范围第1项所述之影像感测器之玻璃 覆晶封装构造,其中该密闭挡环系与该些连接垫约 为等高。 8.如申请专利范围第7项所述之影像感测器之玻璃 覆晶封装构造,其中该密闭挡环与该些连接垫系形 成于同一线路层。 9.如申请专利范围第8项所述之影像感测器之玻璃 覆晶封装构造,其中该密闭挡环与该些连接垫之材 质系为金。 10.如申请专利范围第8或9项所述之影像感测器之 玻璃覆晶封装构造,其中该密闭挡环与该些连接垫 之底层系形成有一黏着层,以固着于该玻璃基板。 11.如申请专利范围第10项所述之影像感测器之玻 璃覆晶封装构造,其中该黏着层之材质系为钛-钨 。 12.如申请专利范围第1项所述之影像感测器之玻璃 覆晶封装构造,其中该点涂胶体系选自于高流动底 部填充胶、非流动底部填充胶与防水胶之其中之 一。 13.如申请专利范围第1项所述之影像感测器之玻璃 覆晶封装构造,其中该些可变形凸块系为打线形成 之结线凸块(stud bump)。 14.如申请专利范围第1项所述之影像感测器之玻璃 覆晶封装构造,另包含有一软性电路板,其系贴设 于该玻璃基板之其中一侧。 15.如申请专利范围第1或8项所述之影像感测器之 玻璃覆晶封装构造,其中该玻璃基板系缺乏防焊层 ,而使该密闭挡环与该些连接垫为表面浮凸于该玻 璃基板。 图式简单说明: 第1图:习知影像感测器之玻璃覆晶封装构造之截 面示意图。 第2图:依据本发明之一具体实施例,一种影像感测 器之玻璃覆晶封装构造之截面示意图。 第3图:依据本发明之一具体实施例,该影像感测器 之玻璃覆晶封装构造其玻璃基板之上表面示意图 。 第4图:依据本发明之一具体实施例,该影像感测器 之玻璃覆晶封装构造于覆晶接合时之截面示意图 。
地址 新竹市新竹科学工业园区研发一路1号