发明名称 PROCEDE DE FONCTIONNALISATION SUCCESSIVE D'UN SUBSTRAT ET MICROSTRUCTURE OBTENUE PAR CE PROCEDE
摘要 Procédé de fonctionnalisation successive d'un substrat, à la surface duquel se trouvent au moins deux zones (1,2) constituées de matériaux différents, avec au moins une substance chimique, caractérisé en ce que la fonctionnalisation s'effectue sans masquage et en ce qu'il comprend les étapes(a) fonctionnalisation d'une première zone (1) sans masquage de la seconde zone (2) ou des zones suivantes éventuelles grâce à la transformation du substrat par une substance chimique X<1>, où le matériau de la première zone a une réactivité plus élevée par rapport à la substance X<1> que les matériaux des zones suivantes éventuelles, et(b1) traitement de la seconde zone (2) ou/et des zones suivantes éventuelles avec une substance chimique Y<1> pour nettoyer ces zones de la substance X<1> et/ou de ses produits de réaction, qui se sont déposés sur ces zones pendant la fonctionnalisation de la première zone, sans que la surface fonctionnalisée de la première zone ne soit endommagée.
申请公布号 FR2889516(A1) 申请公布日期 2007.02.09
申请号 FR20050008221 申请日期 2005.08.02
申请人 COMMISSARIAT A L'ENERGIE ATOMIQUE ETABLISSEMENT PUBLIC A CARACTERE INDUSTRIEL ET COMMERCIAL 发明人 DELAPIERRE GUILLAUME;DELATTRE CYRIL
分类号 B81C1/00 主分类号 B81C1/00
代理机构 代理人
主权项
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