Method of forming a dielectric layer in a semiconductor device,申请号KR20040102851-传众专利搜索

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发明名称	Method of forming a dielectric layer in a semiconductor device
摘要
申请公布号	KR100680500(B1)	申请公布日期	2007.02.08
申请号	KR20040102851	申请日期	2004.12.08
申请人		发明人
分类号	H01L21/312	主分类号	H01L21/312
代理机构		代理人
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