发明名称 |
用于监视和控制气体等离子体处理的系统和方法 |
摘要 |
一种用于监视气体等离子体处理系统中的状态的系统和方法,其中改变或调制加于系统的RF功率,使得从系统的电路得到的信号提供关于系统的操作参数或处理状态的信息。和常规技术相比重要的改进在于提高了灵敏度和精度。此外,等离子体处理系统在交货之前可以被完整地试验和表征,以便能够利用监视控制器更精确地监视与控制整个过程,借以改进被所述系统生产的基片的质量。由调制技术获得的信息可以在显示屏上显示,以便使操作者能够精确地监视系统并诊断在系统处理过程中出现的任何问题。 |
申请公布号 |
CN1299226C |
申请公布日期 |
2007.02.07 |
申请号 |
CN98809275.1 |
申请日期 |
1998.09.17 |
申请人 |
东京电子株式会社 |
发明人 |
怀恩·L·约汉逊;理查德·帕森斯 |
分类号 |
G06F19/00(2006.01);G06G7/64(2006.01);G06G7/66(2006.01) |
主分类号 |
G06F19/00(2006.01) |
代理机构 |
中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 |
代理人 |
王以平 |
主权项 |
1、一种等离子体系统,包括:电源;第一等离子体耦合元件,用于从所述电源向所述等离子体提供功率;功率改变控制器,用于改变所述功率的幅值、频率和相位中的至少一个;监视检测器,用于接收所述第一等离子体耦合元件的响应信号,其中所述响应信号是由所述功率改变控制器引起的;以及监视器/控制器,用于根据所述响应信号分析所述等离子体的状态。 |
地址 |
日本东京 |