| 发明名称 | 等离子体发生装置 | ||
| 摘要 | 本实用新型涉及一种用于有机材料表面处理的稳定均匀的低温等离子体发生装置，本发明包括同轴、彼此绝缘设置的圆桶形的内、外桶，内桶的桶壁上均布有通孔，内、外桶之间的空间就形成了产生等离子体的发生区，等离子体通过内桶上的开孔从四周向中心扩散，使整个内桶内部空间形成均匀等离子体用来处理物件，由于被处理的高分子材料置于两电极之外，不影响装置的电容参数，保证等离子体参数的一致性，最终保证生产过程中，每次处理效果的一致性。 | ||
| 申请公布号 | CN2867790Y | 申请公布日期 | 2007.02.07 |
| 申请号 | CN200620068363.X | 申请日期 | 2006.01.05 |
| 申请人 | 李衎 | 发明人 | 李衎 |
| 分类号 | H05H1/40(2006.01);H05H1/50(2006.01);H01J37/32(2006.01);H01L21/00(2006.01) | 主分类号 | H05H1/40(2006.01) |
| 代理机构 | 合肥诚兴知识产权代理有限公司 | 代理人 | 汤茂盛 |
| 主权项 | 1、一种等离子体发生装置，其特征在于：本发明包括同轴、彼此绝缘设置的圆桶形的内、外桶(10)、(20)，内桶(10)的桶壁上均布有通孔(11)，壳体设置在外桶(20)上的电极(30)的电极接头(31)穿过外桶(20)与内桶(10)连接，电极(30)的外部接头(32)通过屏蔽电缆与射频源连接，外桶(20)上设有使桶内形成真空环境的装置，外桶(20)上还设有便于开或关的门(21)，外桶(20)与接地端子相连。 | ||
| 地址 | 230022安徽省合肥市屯溪路301号12幢404室 | ||