| 发明名称 | 清洗电子元件或其制造设备的元件的方法和装置 | ||
| 摘要 | 用清洗溶液来清洗电子元件构件或类似零件，如硅晶片等。清洗溶液是将氢气或臭氧溶进高纯水中制备成具有负的或正的氧化-还原电位。这种清洗溶液对于电子元件具有显著改善的洗净性能。此外，调节清洗溶液的pH值，可对电子元件进行更高效率的清洗。 | ||
| 申请公布号 | CN1299333C | 申请公布日期 | 2007.02.07 |
| 申请号 | CN200410002007.3 | 申请日期 | 1997.08.19 |
| 申请人 | 奥加诺株式会社 | 发明人 | 今冈孝之;山下幸福 |
| 分类号 | H01L21/302(2006.01);H01L21/304(2006.01);H01L21/306(2006.01) | 主分类号 | H01L21/302(2006.01) |
| 代理机构 | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人 | 蔡洪贵 |
| 主权项 | 1.一种清洗电子元件或其制造设备的元件的方法，包括分别制备高纯水和臭氧，将臭氧注入并溶解在高纯水中形成氧化-还原电位为正值的碱性清洗溶液，以及利用碱性清洗溶液对电子元件或其制造设备的元件进行清洗，其中，高纯水经除气处理以含浓度是或小于2ppm的溶解氧。 | ||
| 地址 | 日本东京 | ||