发明名称 |
薄膜晶体管及其制造方法 |
摘要 |
一种薄膜晶体管,其包括基板、栅极、第一介电层、通道层、源极/漏极与第二介电层。栅极设置于基板上,而第一介电层覆盖住栅极与基板。通道层至少设置于栅极上方的第一介电层上。源极/漏极设置于通道层上,而源极/漏极包括第一阻挡层、导体层与第二阻挡层。第一阻挡层设置于导体层与通道层之间,且第一阻挡层与第二阻挡层包覆导体层。第二介电层覆盖住源极/漏极。基于上述,本发明的薄膜晶体管具有较为稳定的电性质量。此外,本发明亦披露一种薄膜晶体管的制造方法。 |
申请公布号 |
CN1909248A |
申请公布日期 |
2007.02.07 |
申请号 |
CN200510088797.6 |
申请日期 |
2005.08.02 |
申请人 |
中华映管股份有限公司 |
发明人 |
吴泉毅;赖钦诠;官永佳;戴伟仁 |
分类号 |
H01L29/786(2006.01);H01L21/336(2006.01) |
主分类号 |
H01L29/786(2006.01) |
代理机构 |
北京连和连知识产权代理有限公司 |
代理人 |
王永红 |
主权项 |
1.一种薄膜晶体管,其特征是包括:基板;栅极,设置于该基板上;第一介电层,覆盖住该栅极与该基板;通道层,至少设置于该栅极上方的该第一介电层上;源极/漏极,设置于该通道层上,而该源极/漏极包括第一阻挡层、第一导体层与第二阻挡层,其中该第一阻挡层设置于该第一导体层与该通道层之间,且该第一阻挡层与该第二阻挡层包覆该第一导体层;以及第二介电层,覆盖住该源极/漏极。 |
地址 |
台湾省台北市中山北路三段二十二号 |