高重复频率准分子激光系统

摘要

本发明发明了一种重复频率≥4kHz的氟化氩准分子激光器系统，可以产生波长为193nm的紫外激光输出。重复频率≥4kHz氟化氩准分子激光器系统包括一个氟化氩准分子激光谐振腔，产生重复频率≥4kHz的193nm的光子流。重复频率≥4kHz的氟化氩准分子激光谐振腔包括氟化镁晶体光学窗口，用来在重复频率≥4kHz的193nm的输出情况下输出重复频率≥4kHz的193nm的光子流，之所以用氟化镁晶体光学窗口输出重复频率≥4kHz的准分子193nm激光，是因为此种氟化镁晶体若曝光于能流密度≥40mj/cm²/脉冲的193nm激光下五百万次脉冲，它将具有小于0.08Abs/42mm的255nm感生吸收。并且42mm的晶体120nm的透射率至少为30％。

主权项

1.一种重复频率≥4kHz氟化氩准分子激光系统，用于产生波长为193nm的紫外激光输出，所述激光系统包括：氟化氩准分子激光谐振腔，所述准分子激光谐振腔用来产生重复频率≥4kHz的小于200nm光子流，其特征在于，所述准分子激光谐振腔包括：至少一个氟化镁晶体光学窗口，用于重复频率≥4kHz的波长小于200nm的准分子激光输出，所述的氟化镁晶体光学窗口若曝光于能流密度≥40mj/cm2/脉冲的波长小于200nm激光下五百万次脉冲，它将具有小于0.08Abs/42mm的255nm感生吸收，并且42mm晶体120nm的透射率至少为30％。