发明名称 |
双连续相结构的高分子合金基纳米复合材料及制备方法 |
摘要 |
本发明涉及一种具有双连续相结构的聚对苯二甲酸丁二醇酯/聚丙烯合金/蒙脱土高分子合金基纳米复合材料制备方法。本发明按重量份数:聚丙烯 50-70份,聚对苯二甲酸丁二醇酯 30-50份,有机蒙脱土1.5-5份。将聚丙烯、聚对苯二甲酸丁二醇酯加入到密炼机中,再加入有机蒙脱土,在230℃的温度、50rpm转子转速下熔融共混8-10min,得到具有双连续相结构的聚对苯二甲酸丁二醇酯/聚丙烯合金/蒙脱土高分子合金基纳米复合材料。解决了蒙脱土简单熔融共混直接制备出的插层型纳米复合材料在拉伸强度提高的同时韧性却下降的缺陷。本发明简便易行且成本低廉,大幅提高聚对苯二甲酸丁二醇酯/聚丙烯合金的拉伸及抗冲性能。 |
申请公布号 |
CN1908054A |
申请公布日期 |
2007.02.07 |
申请号 |
CN200610040873.0 |
申请日期 |
2006.08.01 |
申请人 |
扬州大学 |
发明人 |
吴德峰;张明 |
分类号 |
C08L23/12(2006.01);C08K9/06(2006.01);C08L67/03(2006.01) |
主分类号 |
C08L23/12(2006.01) |
代理机构 |
南京中新达专利代理有限公司 |
代理人 |
孙鸥 |
主权项 |
1.双连续相结构的高分子合金基纳米复合材料,其特征在于按如下重量份数组成:聚丙烯 50-70份聚对苯二甲酸丁二醇酯 30-50份有机蒙脱土 1.5-5份 |
地址 |
225009江苏省扬州市江阳中路36号 |