一种旋转式圆柱磁控溅射靶

摘要

本实用新型涉及一种旋转式圆柱磁控溅射靶，广泛应用于各种涂层的制备设备中，属于薄膜制备技术领域。本实用新型包括靶材、条形永磁体和极靴，其中条形永磁体沿靶的轴向嵌于极靴内，其特征在于还包括异形永磁体，所说的异形永磁体连接在条形永磁体两端，所说的对称渐变异形永磁体在条形永磁体的两端尺寸是一致的，其悬空的一端尺寸小于其与条形永磁体相连的一端的尺寸。本实用新型的优点是：整个圆柱靶靶材沿轴向溅射速率均匀，刻蚀速度相近，提高靶材利用率达30％以上。

主权项

1、一种旋转式圆柱磁控溅射靶，包括靶材、条形永磁体、极靴和环形永磁体，其中条形永磁体沿靶的轴向嵌于极靴内，其特征在于还包括异形永磁体，所说的异形永磁体连接在条形永磁体两端，对称渐变异形永磁体与环形永磁体相连一端尺寸大于对称渐变异形永磁体与条形永磁体相连一端的尺寸；对称渐变异形永磁体一端与条形永磁体相连，另一端悬空，悬空一端的尺寸小于其与条形永磁体相连一端的尺寸。