发明名称 Plasma process having enhanced productivity
摘要
申请公布号 KR100678459(B1) 申请公布日期 2007.02.02
申请号 KR20040066929 申请日期 2004.08.24
申请人 发明人
分类号 H01L21/205;H01L21/324 主分类号 H01L21/205
代理机构 代理人
主权项
地址