测量设备及具有测量设备之曝光设备

摘要

一种用于曝光设备的测量设备，该测量设备包括一照射光学系统，其使用来自光源的光照射光罩；一光罩台，其支撑及驱动该光罩，以及一投影光学系统，其将该光罩的图案投影到一板件上，该测量设备测量有效光源分布做为在该光罩之光罩平面上之光的入射角分布，该测量设备包括中继光学系统，被组构来导引通过该照射光学系统的光；以及外壳，其容纳中继光学系统，并被架设在该光罩台上以取代该光罩。