发明名称 具有来自聚矽氮烷之氮化矽质膜之半导体装置及其制法
摘要 本发明系提供一种能够使汲极电流增加之n型场效电晶体、及该电晶体之简单且低成本的制造方法。该n型场效电晶体具备氮化矽质膜,该氮化矽质膜系藉由涂布含有聚矽氮烷化合物之涂布液、烧而形成。
申请公布号 TW200705569 申请公布日期 2007.02.01
申请号 TW095104474 申请日期 2006.02.10
申请人 AZ电子材料股份有限公司 发明人 松尾英树;一山昌章;名仓映乃
分类号 H01L21/318(2006.01) 主分类号 H01L21/318(2006.01)
代理机构 代理人 何金涂;何秋远
主权项
地址 日本