发明名称 一种双极性静电吸盘系统中动态电浆处理的方法与装置
摘要 本发明是有关于一种在电浆反应器中蚀刻基材的方法与装置,其中电浆反应器包含了固定基材的静电吸盘。首先,提供直流电压予静电吸盘,此直流电压使基材上带有静电荷。之后,再以电浆蚀刻此基材。接着再将直流电压中断,以及利用射频源中和电浆反应室中基材上的静电荷。
申请公布号 TW200705567 申请公布日期 2007.02.01
申请号 TW095126103 申请日期 2006.07.17
申请人 台湾积体电路制造股份有限公司 发明人 黄宜清;李兴隆;卢怡州;李佳玲
分类号 H01L21/3065(2006.01) 主分类号 H01L21/3065(2006.01)
代理机构 代理人 蔡坤财;李世章
主权项
地址 新竹市新竹科学工业园区力行六路8号