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发明名称
一种双极性静电吸盘系统中动态电浆处理的方法与装置
摘要
本发明是有关于一种在电浆反应器中蚀刻基材的方法与装置,其中电浆反应器包含了固定基材的静电吸盘。首先,提供直流电压予静电吸盘,此直流电压使基材上带有静电荷。之后,再以电浆蚀刻此基材。接着再将直流电压中断,以及利用射频源中和电浆反应室中基材上的静电荷。
申请公布号
TW200705567
申请公布日期
2007.02.01
申请号
TW095126103
申请日期
2006.07.17
申请人
台湾积体电路制造股份有限公司
发明人
黄宜清;李兴隆;卢怡州;李佳玲
分类号
H01L21/3065(2006.01)
主分类号
H01L21/3065(2006.01)
代理机构
代理人
蔡坤财;李世章
主权项
地址
新竹市新竹科学工业园区力行六路8号
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