发明名称 试料处理用过程监视装置及试料处理装置的控制方法
摘要 监视资料取得部系介由感知器取得关于处理装置的单一试料的处理装置之复数个监视资料,资料选择部系由该复数个监视资料中选择属于关于前述试料的复数个处理区分中的任意的处理区分之监视资料。监视讯号生成部系以依据前述资料选择部所选择之属于前述任意的处理区分之监视资料作为监视讯号而生成,显示设定控制器系将关于在于前述处理装置已被处理的试料而得到的复数个前述监视讯号,时间系列地显示于显示部。
申请公布号 TWI272639 申请公布日期 2007.02.01
申请号 TW090121993 申请日期 2001.09.05
申请人 日立制作所股份有限公司 发明人 田中润一;橘内浩之;山本秀之;几原祥二;高桥主人
分类号 H01L21/00(2006.01) 主分类号 H01L21/00(2006.01)
代理机构 代理人 林志刚 台北市中山区南京东路2段125号7楼
主权项 1.一种过程监视装置,其特征为:具备: 藉由感知器取得关于处理装置的单一试料的处理 装置之复数个监视资料之监视资料取得部;及 由该复数个监视资料中选择属于关于前述试料的 复数个处理区分中的任意的处理区分之监视资料 的资料选择部;及 以依据前述资料选择部所选择之属于前述任意的 处理区分之监视资料作为监视讯号而生成之监视 讯号生成部;及 将关于在于前述处理装置已被处理的试料而得到 的复数个前述监视讯号,时间系列地显示于显示部 之显示设定控制器。 2.如申请专利范围第1项之过程监视装置,其中,更 具备:针对每个前述试料区分储存前述监视资料之 资料空间, 前述复数个处理区分系包含:前述试料的处理步骤 、试料单位、批量单位、及试料处理的空时间, 前述复数个监视资料系属于任意的试料处理区分 。 3.如申请专利范围第1项之过程监视装置,其中, 更具备:储存关于前述装置监视讯号的标准资料之 资料空间;及比较前该标准资料与前述监视讯号之 比较部, 而时间系列地显示该比较结果于前述显示部上。 4.如申请专利范围第3项之过程监视装置,其中,前 述标准资料系与前述的已被处理之试料同种的方 法且在同种的试料的过去之处理所得到的监视讯 号或加工此之资料。 5.如申请专利范围第3项之过程监视装置,其中,更 具备: 根据前述比较结果进行试料的处理状态之确认与 处理装置的异常侦知之异常侦知部。 6.如申请专利范围第1项之过程监视装置,其中,更 具备在前述处理装置储存记录于过去所发生的事 像之资料空间,前述时间系列显示地补记该事像后 显示。 7.如申请专利范围第1项之过程监视装置,其中,更 具备: 取得前述试料之经由过去的其他处理装置之事像 的事像取得部,前述时间系列显示地补记该事像。 8.如申请专利范围第1项之过程监视装置,其中,更 具备: 选择显示试料的数量或种类的至少一个之部。 9.如申请专利范围第1项之过程监视装置,其中,在 前述过程监视装置,于过去所处理的试料的监视讯 号中选择与眼前处理过的试料同种的试料处理之 监视讯号后显示。 10.如申请专利范围第1项之过程监视装置,其中,更 具备: 生成复数型的监视讯号之生成部;及 选择显示监视讯号的型之选择部。 11.如申请专利范围第1项之过程监视装置,其中,更 具备: 按照来自前述监视讯号的标准资料之偏移程度赋 予前述试料处理区分间的顺序之顺序生成部;及 根据该顺序将试料的处理异常之试料处理区分作 为异常区分来辨别显示之异常区分辨别部。 12.如申请专利范围第1项之过程监视装置,其中, 前述显示设定控制器系在前述监视讯号为2种类以 上的情况下,以1种类的前述监视讯号作为2次元图 表的纵轴,别种类的前述监视讯号作为横轴,时间 系列地显示于前述显示部。 13.如申请专利范围第1项之过程监视装置,其中,处 理区分为前述试料的处理步骤、试料单位、批量 单位、及试料处理的空时间中的任一种。 14.一种过程监视装置,其特征为:具备: 藉由感知器取得关于处理装置的单一试料的处理 装置之复数个监视资料之监视资料取得部;及 由该复数个监视资料中选择属于关于前述试料的 复数个处理区分中的任意的处理区分之监视资料 的资料选择部;及 以依据前述资料选择部所选择之属于前述任意的 处理区分之监视资料作为监视讯号而生成之监视 讯号生成部;及 将关于在于前述处理装置已被处理的试料而得到 的复数个前述监视讯号,时间系列地显示于显示部 之显示设定控制器; 根据前述处理装置的处理状态切换显示的显示切 换部。 15.如申请专利范围第14项之过程监视装置,其中,处 理区分为前述试料的处理步骤、试料单位、批量 单位、及试料处理的空时间中的任一种。 16.一种过程监视装置,其特征为:具备: 藉由感知器取得关于处理装置的单一试料的处理 装置之复数个监视资料之监视资料取得部;及 由该复数个监视资料中加工该监视资料后抽出较 已监视的数量少的数量的监视讯号之监视讯号生 成部;及 将关于在于前述处理装置已被处理的试料而得到 的复数个前述监视讯号,时间系列地显示于显示部 之显示设定控制器。 17.如申请专利范围第16项之过程监视装置,其中, 将前述监视资料作为加工的手段使用主成分分析 。 18.如申请专利范围第16项之过程监视装置,其中, 由前述的少数监视讯号,显示使用标准型预测试料 的处理性能之结果。 19.如申请专利范围第16项之过程监视装置,其中,处 理区分为前述试料的处理步骤、试料单位、批量 单位、及试料处理的空时间中的任一种。 20.一种试料处理装置的控制方法,系具备藉由感知 器取得关于处理装置的单一试料的处理装置之复 数个监视资料的过程监视装置之试料处理装置的 控制方法,其特征为:具备以下的步骤: (a)藉由感知器取得关于处理装置的单一试料的处 理装置之复数个监视资料; (b)由该复数个监视资料中选择属于关于前述试料 的复数个处理区分中的任意的处理区分之监视资 料; (c)以依据前述资料选择部所选择之属于前述任意 的处理区分之监视资料作为监视讯号而生成; (d)利用前述监视讯号进行试料处理的控制。 21.如申请专利范围第20项之试料处理装置的控制 方法,其中, 前述复数个处理区分系包含:前述试料的处理步骤 、试料单位、批量单位、及试料处理的空时间, 前述步骤(b)系由该复数个监视资料中选择属于关 于任意的试料处理区分之资料,前述步骤(c)系加工 该已被选择的监视资料作成监视讯号。 22.如申请专利范围第21项之试料处理装置的控制 方法,其中, 前述步骤(d)系比较前述监视讯号的标准资料与前 述监视讯号,而使用该比较结果进行处理的控制。 23.如申请专利范围第22项之试料处理装置的控制 方法,其中, 前述步骤(d)系当由前述比较结果侦知出前述监视 讯号是已由正常范围偏移的异常之情况时,进行异 常处理的控制。 24.如申请专利范围第22项之试料处理装置的控制 方法,其中, 前述步骤(d)系按照来自前述监视讯号的标准资料 之偏移程度赋予前述试料处理区分间的顺序,根据 该顺序优先进行试料的异常程度高之试料处理区 分处理的控制。 25.如申请专利范围第20项之试料处理装置的控制 方法,其中, 由前述试料处理装置取得复数个监视资料,加工该 监视资料后抽出较已监视的数量少的数量的监视 讯号,使用该监视讯号进行试料处理的控制。 26.如申请专利范围第25项之试料处理装置的控制 方法,其中, 由前述的少数监视讯号,使用标准式预测试料的处 理性能,根据该预测,进行试料处理的控制。 27.如申请专利范围第20项之试料处理装置的控制 方法,其中,更具备: (e)时间系列地显示前述已被生成的监视讯号于显 示部之步骤。 28.如申请专利范围第20项之试料处理装置的控制 方法,其中, 在于前述步骤(e),在前述监视讯号为2种类以上的 情况下,以1种类的前述监视讯号作为2次元图表的 纵轴,别种类的前述监视讯号作为横轴,时间系列 地显示于前述显示部。 29.如申请专利范围第20项之试料处理装置的控制 方法,其中,处理区分为前述试料的处理步骤、试 料单位、批量单位、及试料处理的空时间中的任 一种。 30.一种试料的制造方法,其特征为:具备以下的步 骤: 利用感知器取得关于处理装置的单一试料的处理 装置之复数个监视资料; 由该复数个监视资料中选择属于关于前述试料的 复数个处理区分中的任意的试料处理区分之监视 资料; 加工前述已被选择的监视资料后作成监视讯号; 使用该监视讯号进行前述试料的处理控制,制造试 料。 31.如申请专利范围第30项之试料的制造方法,其中, 处理区分为前述试料的处理步骤、试料单位、批 量单位、及试料处理的空时间中的任一种。 32.一种试料的制造方法,其特征为:具备以下的步 骤: 藉由感知器取得关于处理装置的单一试料的处理 装置之复数个监视资料; 由该复数个监视资料,加工该监视资料后抽出生成 较已监视的数量少的数量的监视讯号; 使用前述已被生成的监视讯号进行前述试料的处 理控制,制造试料。 图式简单说明: 第1图系显示本发明的第1实施例之试料处理装置 之全体结构的图。 第2图系显示第1图的试料处理装置之显示部的显 示画面之一个例子的图。 第3图系显示为了实施第2图的显示,显示设定控制 器的处理系统之一构成例的图。 第4图系显示地3图的资料处理流程之一实施例的 图。 第5图系显示第1图的试料处理装置之监视型选择 视窗的一个例子之图。 第6图系显示第5图的显示设定控制器之动作流程 之例子的图。 第7图系显示第1图的试料处理装置之监视型选择 视窗的其他例子之图。 第8图系显示第7图的显示设定控制器之动作流程 之例子的图。 第9图系显示第1图的试料处理装置之监视型选择 视窗的其他例子之图。 第10图系显示第9图的显示设定控制器之动作流程 之例子的图。 第11图系显示本发明的显示部之视窗及显示设定 控制器之其他例子的图。 第12图系显示本发明的显示部之视窗及显示设定 控制器之其他例子的图。 第13图系显示本发明的显示部之视窗及显示设定 控制器之其他例子的图。 第14图系显示本发明的显示部之视窗及显示设定 控制器之其他例子的图。 第15图系显示本发明的显示部之视窗及显示设定 控制器之其他例子的图。 第16图系显示本发明的显示部之视窗及显示设定 控制器之其他例子的图。 第17图系显示用来实施第16图之显示设定控制器的 资料处理系统之结构的图。 第18图系显示比较第17图的两个讯号的图表之一个 例子的图。 第19图系显示第16图的实施例之每个批量的比较资 料之一个例子的图。 第20图系显示本发明的试料处理装置的其他实施 例之图。 第21图系显示本发明的试料处理装置之显示部的 显示画面之其他的一个例子的图。 第22图系显示本发明的试料处理装置之显示部的 显示画面之其他例子的图。 第23图系显示本发明的试料处理装置之显示部之 其他实施例的图。 第24图系显示本发明的试料处理装置之显示部之 其他实施例的图。 第25图系显示本发明的试料处理装置之显示部之 其他实施例的图。 第26图系显示本发明的试料处理装置之显示部之 其他实施例的图。 第27图系显示本发明的试料处理装置之显示部之 其他实施例的图。 第28图系显示本发明的试料处理装置之显示部之 其他实施例的图。 第29图系显示本发明的试料处理装置之显示部之 其他实施例的图。 第30、31、32、33图系各自显示本发明的试料处理 装置的显示部之其他实施例的显示画面例的图。
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