| 主权项 |
1.一种含结晶性二氧化铈粒子之溶胶,其特征为:气 体吸附法比表面积换算之粒径在10至200奈米,且(动 态光散射法量测之粒径)/(气体吸附法比表面积换 算粒径)之比在2至6之范围。 2.一种如申请专利范围第1项之含结晶性二氧化铈 粒子之溶胶的制造方法,其特征为:下述(A)步骤及(B )步骤: (A)步骤:惰性气体环境下水性媒体中,铈(III)盐与硷 性物质以3至30之(OH)/(Ce3+)莫耳比反应生成氢氧化 铈(III)之悬浮液后,直接于该悬浮液在大气压下,于 10至95℃之温度吹入氧或含氧气体,生成含气体吸 附法比表面积换算粒径在10至200奈米,且(动态光散 射法量测之粒径)/(气体吸附法比表面积换算之粒 径)比在10以上范围之结晶性二氧化铈粒子之溶胶 之步骤,及 (B)步骤:将(A)步骤所得之溶胶湿式粉碎之步骤所成 。 3.如申请专利范围第2项之含结晶性二氧化铈粒子 之溶胶的制造方法,其中硷性物质系硷金属之氢氧 化物,有机硷或这些之混合物。 4.如申请专利范围第2项或第3项之含结晶性二氧化 铈粒子之溶胶的制造方法,其中含氧气体系空气或 氧与氮之混合气体。 5.一种如申请专利范围第1项之含结晶性二氧化铈 粒子溶胶的制造方法,其特征为:下述(a)步骤及(b) 步骤: (a)步骤:将碳酸铈于300至1100℃,锻烧以制造结晶性 氧化铈粒子之步骤,及 (b)步骤:(a)步骤所得粒子之湿式粉碎步骤所成。 6.如申请专利范围第2项或第5项之含结晶性二氧化 铈粒子溶胶的制造方法,其中湿式粉碎系藉湿式球 磨机、砂磨机、立式球磨机、珠磨机、超音波均 质机、压力均质机或超雾化机进行。 7.一种水性浆液,其特征为:水性媒体中含如申请专 利范围第1项之结晶性二氧化铈粒子吸附于带负电 之高分子聚合物粒子表面之有机-无机复合粒子。 |
