| 主权项 |
1.一种布局设计方法,系用以进行电容元件之布局 者,包含有: 规定电容元件之最大电容値及修整电容値之参数 的取得步骤;以及 根据规定上述最大电容値之参数而决定电容元件 之基本构成,且根据规定上述修整电容値之参数而 变更上述基本构成之电极有效面积,以进行电容元 件之布局的步骤。 2.一种布局设计装置,系用以进行电容元件之布局 者,包含有: 参数取得机构,用以取得规定电容元件之最大电容 値及校正电容値之参数;以及 元件单元产生机构,根据规定由上述参数取得机构 所取得的上述最大电容値之参数而决定电容元件 之基本构成,且根据规定由上述参数取得机构所取 得的上述校正电容値之参数而变更上述基本构成 之电极有效面积,以进行电容元件之布局。 3.一种记录有布局设计程式之记录媒体,上述布局 设计程式系用以进行电容元件之布局者,并使电脑 执行包含有如下步骤之处理: 取得规定电容元件之最大电容値及校正电容値之 参数的步骤;以及 根据规定上述最大电容値之参数而决定电容元件 之基本构成,且根据规定上述校正电容値之参数而 变更上述基本构成之电极有效面积,以进行电容元 件之布局的步骤。 图式简单说明: 第1图系本发明实施形态之布局设计装置的构成方 块图。 第2图系显示本发明实施形态之布局设计方法的流 程图。 第3图(a)及(b)系本发明实施形态之电晶体的基本构 成例示图。 第4图系本发明实施形态之参数的设定输入画面示 意图。 第5图(a)至(e)系本发明实施形态之元件单元的自动 产生说明图。 第6图(a)至(c)系本发明实施形态之元件单元的自动 产生说明图。 第7图(a)至(d)系本发明实施形态之元件单元的自动 产生说明图。 第8图系本发明实施形态之元件单元之产生结果的 显示画面说明图。 第9图(a)及(b)系本发明变化例1之电容元件的基本 构成例示图。 第10图(a)及(b)系本发明变化例1之电容元件之元件 单元的自动产生说明图。 第11图(a)及(b)本发明变化例2之电阻元件的基本构 成例示图。 第12图(a)至(d)系本发明变化例2之电阻元件之元件 单元的自动产生说明图。 第13图系本发明变化例2之电阻元件之元件单元的 自动产生说明图。 第14图(a)及(b)系本发明变化例2之电阻元件之元件 单元的自动产生说明图。 第15图系本发明变化例2之电阻元件之元件单元的 自动产生说明图。 第16图系显示积体电路之布局设计的流程图。 |
