曝光装置

摘要

本发明系有关于一种曝光装置，其包括面向一基板50设置之刻画有电路图案之一薄膜光罩3以及设置于薄膜光罩3上之一施压膜1。藉由平台4的升起，薄膜光罩3与施压膜1形成接触并推挤朝向基板50。薄膜光罩3及平台4系设置于一减压腔2内，其上部表面即为施压膜1。施压膜1系由例如树脂等材料所制成之薄膜，其具有允许曝光波长穿透之能力。施压膜1沿其圆周方向连结于减压腔2之璧上以形成此减压腔之侧璧，其中藉由将减压腔Y侧压力变为负值，施压膜1便自其至圆周膨胀成一小丘状以将薄膜光罩3推挤朝向基板50。

主权项

1.一种曝光装置,具有用以握持曝光物件之一平台 以及用以支撑刻画用以于曝光物件上形成曝光之 有曝光内容物之光罩之一光罩支撑装置,其特征包 括: 一减压腔,包含有至少该光罩支撑装置以及该平台 ,且用于建立低于环境压力之较低压力; 一施压膜,形成于该减压腔壁上之一表面上,可藉 由该减压腔之减压作用朝向该减压腔内侧膨胀;以 及 复数个移动装置,用以相对移动该平台及该施压膜 以使为该光罩支撑装置所支撑之光罩与为该平台 所握持之该曝光物件可为该膨胀之施压膜所推挤, 因此而使该光罩与该曝光物件形成完全接触。 2.如申请专利范围第1项所述之曝光装置,其中该平 台可沿藉由该光罩支撑装置沿该光罩方向移动以 及藉由该些移动装置沿该施压膜方向移动,且藉由 移动该平台,该平台上之曝光物件因而推挤朝向该 光罩且更推挤朝向该施压膜,因此而使该光罩与该 曝光物件形成完全接触。 3.如申请专利范围第1项或第2项所述之曝光装置, 其中该些移动装置系设置于该减压腔之外部,部分 之该平台自该减压腔外侧延伸且偶接于该移动装 置,其中该移动装置更包括了用以密封介于该平台 之延伸部与该减压腔间之一密封装置。 4.一种曝光装置,其特征包括: 一平台,用以握持一曝光物件; 一支撑装置,用以支撑刻画有该曝光物件使用之光 罩; 一施压膜,用以带领该光罩与为该平台所握持之曝 光物件形成完全接触; 一密封空间,由该施压膜与其他密封材料所形成, 至少包含该光罩支撑装置以及该曝光物件;以及 一移动装置,以将该密封空间内压力变为负値,其 中藉由将该密封空间内压力变为负値以使该施压 膜推挤该光 图式简单说明: 第1图为本发明之一实施例中的示意图; 第2图为一解说图示,用以显示本发明之实施例中 之相关功能。