| 主权项 |
1.一种复合光学构件,系属于一种一体具备复数个 绕射光栅之复合光学构件,其特征为:该复合光学 构件具有光轴,在该光轴方向的两端面分别具备光 的入射面与射出面,且沿着前述光轴方向而形成有 圆柱状部与基体部,在圆柱状部与基体部分别设置 对与该光轴正交的方向进行位置限制之第1限制部 与第2限制部。 2.一种复合光学构件之安装构造,其系将如申请专 利范围第1项之复合光学构件安装于外壳的安装构 造中,其特征为:收容前述复合光学构件之收容室 被形成在该机壳,在该收容室设置前述第1限制部 与前述第2限制部分别卡合之第1限制承受部与第2 限制承受部。 3.如申请专利范围第2项记载之复合光学构件之安 装构造,其中前述收容室系使前述机壳沿着前述光 轴被形成为筒状,前述复合光学构件由前述收容室 之开口部被嵌入而收容,且前述第1限制部被形成 在前述复合光学构件之嵌入方向之前端部,前述第 2限制部被形成在后端部。 4.如申请专利范围第3项记载之复合光学构件之安 装构造,其中前述第1限制部以及前述第2限制部包 围前述复合光学构件之前述光轴周围之外周地被 形成,前述第1限制承受部以及前述第2限制承受部 系被形成在前述收容室之内周,为前述第1限制部 以及前述第2限制部分别抵接之限制承受面。 5.如申请专利范围第4项记载之复合光学构件之安 装构造,其中前述第2限制部系由以指定之间隔形 成于前述复合光学构件之外周面之至少3个之突出 部形成,在前述突出部与前述光学机能部之间设置 缓冲作用于前述突出部之压入力量之缓冲区域,前 述复合光学构件之后端部被压入前述收容室之后 端部,且在该压入状态,前述各突出部藉由前述第2 限制承受部被按压,前述缓冲区域会被挤压。 6.如申请专利范围第5项记载之复合光学构件之安 装构造,其中前述缓冲区域系空间部。 7.如申请专利范围第3项记载之复合光学构件之安 装构造,其中前述收容室系搭着开口部而扩大展开 。 8.如申请专利范围第3项记载之复合光学构件之安 装构造,其中在前述收容室设置:前述复合光学构 件被收容时,该复合光学构件之一部份抵接,完成 前述光轴方向之定位之定位部。 9.如申请专利范围第2项记载之复合光学构件之安 装构造,其中具备前述入射面与前述射出面与前述 第1以及第2限制部之前述复合光学构件系树脂,藉 由成形而被一体成形。 10.如申请专利范围第3项记载之复合光学构件之安 装构造,其中在前述收容室之前端面贯穿形成入射 、射出口,以前述射出面能够面临该入射、射出口 之方式,在前述收容室收容前述复合光学构件,且 在具备该复合光学构件之前述机壳安装固定发光 构件与受光构件使之一体化,将前述机壳安装固定 于物镜被搭载之进行光碟的记录或再生之光拾取 装置之拾取头本体,使由前述发光构件射出之光入 射前述入射面,由前述射出面射出,使该射出之光 通过前述入射、射出口照射于前述光碟,由该光碟 来之返光入射前述射出面,透过前述复合光学构件 之过程中,偏向前述受光构件之方向,以该受光构 件接受返光。 11.一种复合光学构件之安装构造,系属于一种供以 将一体具备复数个绕射光栅的复合光学构件安装 于机壳用之安装构造,其特征为:该复合光学构件 具有光轴,在该光轴方向的两端面分别具备光的入 射面与射出面,在前述机壳形成将前述复合光学构 件沿着前述光轴之方向嵌入而收容之收容室,在该 复合光学构件设置进行复合光学构件之前述光轴 周围之旋转位置限制之位置限制部,在前述收容室 设置该位置限制部卡合之位置限制承受部,且设置 在前述复合光学构件之收容时,将前述位置限制部 导引于前述位置限制承受部之导引部。 12.如申请专利范围第11项记载之复合光学构件之 安装构造,其中前述位置限制部系突出形成于前述 复合光学构件之前述光轴周围之外周面之位置限 制突出部,前述位置限制承受部系形成在前述收容 室之内壁面之位置限制沟,前述导引部系连设于该 位置限制沟,为以能够搭着前述收容室之前述复合 光学构件插入用之开口部而成为宽幅之方式来形 成于前述内壁面之导引沟,在前述复合光学构件之 嵌入时,前述位置限制突出部藉由前述导引沟被导 引于前述位置限制沟,前述位置限制突出部之外径 嵌合于该位置限制沟之沟宽内,以进行前述复合光 学构件之旋转位置限制。 13.如申请专利范围第11项记载之复合光学构件之 安装构造,其中于前述收容室中,在前述复合光学 构件之嵌入方向之前端面贯穿形成入射、射出口, 以前述入射面能够面临该入射、射出口之方式,将 前述复合光学构件收容于前述收容室,在具备该复 合光学构件之前述机壳安装固定发光构件与受光 构件而使之一体化,将前述机壳安装固定于物镜被 搭载之进行光碟的记录或再生之光拾取装置之光 拾取头本体,将由前述发光构件射出之光入射前述 入射面,由前述射出面射出,使射出之光通过前述 入射、射出口,照射于前述光碟,将由该光碟来之 返光入射前述射出面,在透过前述复合光学构件之 过程中,使偏向前述受光构件之方向,由前述复合 光学构件射出,以前述受光构件接受该返光。 14.如申请专利范围第13项记载之复合光学构件之 安装构造,其中前述位置限制沟或前述导引沟系贯 穿前述机壳之外壁而被形成,以前述受光构件能够 面对该位置限制沟或该导引沟之方式来配设于前 述机壳之外壁部,且使前述返光通过前述位置限制 沟或前述导引沟以该受光构件受光。 图式简单说明: 图1系显示本发明之实施形态之光拾取装置100之说 明图。 图2系本发明之实施形态之2波长雷射二极体102之 一部份剖面斜视图。 图3系本发明之实施形态之复合光学构件105之正面 图。 图4系图3之左侧面图。 图5系图3之右侧面图。 图6系由图3之方向6所见之图。 图7系本发明之实施形态之机壳106之平面图。 图8系图7之8-8剖面图。 图9系图8之左侧面图。 图10系图8之右侧面图。 图11系由图8之方向11所见之图。 图12系图1之12-12一部份剖面图。 图13系说明本发明之实施形态之复合光学构件105 之机能用之说明图。 图14系本发明之其它之实施形态之复合光学构件 105′之正面图。 图15系图14之左侧面图。 图16系图1中,于复合光学单元101组装入复合光学构 件105′之情形之12-12剖面图。 图17系习知之光学单元50之一部份剖面图。 图18系习知之光学单元50之一部份分解斜视图。 |
