| 主权项 |
1.一种晶圆制程反应室之气体散布平板,包含: 一气体分散板件,包含复数个气体散布孔洞以供气 体输入该晶圆制程反应室,且其外围设有一凸缘; 一气体导引板件,其外围抵靠于该凸缘,而与该气 体分散板件间形成一空室,作为该气体通过该气体 散布孔洞前之缓冲区;以及 复数个结合件,结合该气体分散板件及该气体导引 板件。 2.根据请求项1之晶圆制程反应室之气体散布平板, 其中该气体分散板件包含复数个螺孔,该气体导引 板件包含复数个相应于该螺孔之拴孔,该结合件系 穿设该拴孔而锁固于该螺孔。 3.根据请求项2之晶圆制程反应室之气体散布平板, 其中该气体导引板件另包含至少一定位鎨孔,以供 至少一定位鎨件穿过,作为该拴孔与螺孔校准之用 。 4.根据请求项1之晶圆制程反应室之气体散布平板, 其中该气体导引板件中央设有一孔洞,供该气体导 入该空室。 5.根据请求项1之晶圆制程反应室之气体散布平板, 其中各结合件搭配一O形环,作为该空室气密之用 。 6.根据请求项1之晶圆制程反应室之气体散布平板, 其中该气体分散板件包含: 一第一平板,外围设有一第一环状凸起,该第一环 状凸起环绕形成该空室;以及 一第二平板,外围设有一第二环状凸起,而得将该 第一平板内嵌于该第二环状凸起所环绕形成之一 凹室内; 其中该第一及第二环状凸起构成该凸缘。 7.根据请求项6之晶圆制程反应室之气体散布平板, 其中该复数个气体散布孔洞系设于该第一及第二 平板内并连通组成。 8.根据请求项6之晶圆制程反应室之气体散布平板, 其中该凸缘的宽度等于该第一及第二环状凸缘宽 度的总和。 9.根据请求项6之晶圆制程反应室之气体散布平板, 其中该第一及第二平板系焊接结合。 10.根据请求项1之晶圆制程反应室之气体散布平板 ,其中该气体导引板件及气体分散板件系由铝合金 制成。 11.根据请求项1之晶圆制程反应室之气体散布平板 ,其中仅该气体分散板件于维护时进行清洗或更换 。 图式简单说明: 图1系习知之气体散布平板之立体分解示意图; 图2系本创作之气体散布平板之立体分解示意图; 图3(a)至3(c)系本创作一实施例之气体散布平板之 气体导引板件之示意图; 图3(d)至3(g)系本创作一实施例之气体散布平板之 气体分散板件之示意图; 图4系本创作一实施例之气体散布平板之结合示意 图;以及 图5及6系本创作另一实施例之气体散布平板之气 体分散板件之示意图。 |
