| 主权项 |
1.一种非对称性浮水印植入及产生侦测用金钥之 方法,包括: 取得一原始影像之特征向量矩阵o; 针对该原始影像o进行分析,找到适合植入浮水 印之浮水印空间W; 将该空间W再分割成两个互相正交之子空间g及h; 选用一植入用金钥G,G为一矩阵;G之各行数値形成 子空间g之基底; 计算矩阵H,HTG=0;矩阵H之各行数値为子空间h之基底 ;及 计算侦测用金钥D,该金钥D为矩阵G及H之加权组合( weighted mixing)。 2.如申请专利范围第1项之非对称性浮水印植入及 产生侦测用金钥之方法,其中之侦测用金钥D系以 下式计算得出: D=GT+BHT; 其中,B为一矩阵。 3.如申请专利范围第1或2项之非对称性浮水印植入 及产生侦测用金钥之方法,另包括取得一浮水印w, 及以下式将该浮水印w植入于该原始影像o中,得 到浮水印影像w之步骤: w=o+Gw; 其中,mo=Do,mo为非0向量。 4.如申请专利范围第1或2项之非对称性浮水印植入 及产生侦测用金钥之方法,其中,该浮水印空间W系 将该原始影像o作特征分布分析后所得之子空间 。 5.如申请专利范围第1或2项之非对称性浮水印植入 及产生侦测用金钥之方法,其中,该浮水印空间W系 分析可能对该原始影像o产生破坏之攻击之分布 后,所得之攻击可能性较小之子空间。 6.如申请专利范围第5项之非对称性浮水印植入及 产生侦测用金钥之方法,其中,该浮水印空间W系分 析可能对该原始影像o产生破坏之攻击之分布, 并以SVD方法分析上述分布后,所得之特征値( eigenvalues)较小之组成分所代表之子空间。 7.如申请专利范围第1或2项之非对称性浮水印植入 及产生侦测用金钥之方法,其中,该浮水印空间W之 产生方法包括: 将该原始影像W进行多数种之影像处理,产生多数 仿冒影像(forged images); 自所得之仿冒影像中收集各影像之特征,计算各仿 冒影像的共变异数矩阵(covariance matrix):及 选择该共变异数矩阵中,涵括(spanned)特定数量相对 应特征値较小之特征向量(eigenvectors)所代表之空 间,作为浮水印空间W。 8.如申请专利范围第7项之非对称性浮水印植入及 产生侦测用金钥之方法,其中,选择该共变异数矩 阵中,代表浮水印空间W之特征向量之步骤包括将 所得之共变异数矩阵作SVD处理之步骤。 9.如申请专利范围第2项之非对称性浮水印植入及 产生侦测用金钥之方法,其中,B之一般式为: 其中,=(1/1+k),ui⊥s,vj⊥t,ci.j为实数,ci.j为由[-1,1] 随机选择之値。 图式简单说明: 第1图表示一种已知对称性浮水印加入方法流程图 。 第2图显示本发明非对称性浮水印适用之浮水印空 间技术简化系统图。 第3图表示本发明非对称性浮水印植入方法流程图 。 第4图即表示本发明非对称性浮水印植入方法一实 例之流程图。 第5图表示对加入本发明非对称性浮水印后之Lena 影像做模拟攻击之侦测结果示意图。图中横轴为 杂讯比,纵轴为比对讯号与侦测讯号间的夹角。 第6图为本发明应用在各种盲目攻击之结果示意表 。 第7图显示以投影攻击除去植有本发明非对称性浮 水印之Lena影像所得之结果。 |
