| 主权项 |
1.一种光学记录媒体,为以开口数0.850.1之透镜来 集光,以波长4055 nm之光的照射来执行记录或重播 之光学记录媒体,其特征在于: 具有:在表面形成有沟之基板, 形成于前述沟形成面之前述基板上,具有对应于前 述沟之凹凸形状的光学记录层, 以及在前述光学记录层上形成之光透过性保护膜; 在前述保护膜侧对光学记录层照射记录或重播用 光时使用, 前述凹凸形状之光学记录层内,从前述记录或重播 用之光照射侧偏远侧之相当于前述凹凸形状的凹 部、及从前述记录或重播用之光照射侧偏近侧之 相当于前述凹凸形状的凸部,此两部份只有其一之 前述光学记录层被当做记录领域使用, 被当做前述记录领域使用之凸部或凹部的间距(轨 距)为0.320.01 m, 相对于前述凸部之凹部深度为19-24 nm范围。 2.如申请专利范围第1项之光学记录媒体,其中前述 沟中形成有振幅8-12 nm之摆动结构。 3.如申请专利范围第1项之光学记录媒体,其中前述 凹凸形状之光学记录层内,只有从前述记录或重播 用之光照射侧偏近侧之相当于前述凹凸形状之凸 部部份的前述光学记录层被当做记录领域使用。 4.如申请专利范围第3项之光学记录媒体,其中从前 述记录或重播用之光照射侧至偏近侧之相当于前 述凹凸形状之凸部部份,系相当于在供形成具有前 述沟之基板的原盘制造步骤中,该原盘表面受到雷 射光束或电子光束曝光的领域。 5.一种光碟装置,备有: 将具有表面有沟之基板、形成于前述沟形成面之 前述基板上之具备对应前述沟的凹凸形状之光学 记录层、以及前述光学记录层上之光透过性保护 膜的光学记录媒体,予以旋转的旋转驱动手段; 相对前述光学记录层,将波长为4055 nm之记录或重 播用光出射之光源; 含有供将前述光束从前述保护膜侧集光于前述光 学记录层照射的开口数为0.850.1之透镜光学系;及 承受由前述光学记录层反射回来之光的受光元件; 以及依据前述受光元件承受之反射光生成一定信 号的信号处理电路;又, 作为前述光学记录媒体,使用从前述记录或重播用 之光照射侧偏远侧之相当于前述凹凸形状的凹部 、及从前述记录或重播用之光照射侧偏近侧之相 当于前述凹凸形状的凸部中,只为其一之前述光学 记录层,当做记录领域使用; 作为前述光学记录媒体,系使用当做前述记录领域 使用之凸部或凹部的间距(轨距)为0.320.01 m,相 对于前述凸部之凹部深度为19-24 nm范围之光学记 录媒体。 6.如申请专利范围第5项之光碟装置,其中使用之前 述光学记录媒体,其前述沟中系形成振幅8-12 nm的 摆动结构。 7.如申请专利范围第5项之光碟装置,其中作为前述 光学记录媒体,系使用前述凹凸形状之光学记录层 内,只有相当于从前述记录或重播用之光照射侧偏 近侧的前述凹凸形状之凸部部份的前述光学记录 层,作为记录领域。 8.如申请专利范围第7项之光碟装置,其中作为前述 光学记录媒体,系使用相当于从前述记录或重播用 之光照射侧偏近侧的前述凹凸形状之凸部部份,系 在供形成具有前述沟之基板的原盘制造步骤中,相 当于该原盘表面中受到雷射光束或电子光束曝光 的领域之光学记录媒体。 图式简单说明: 图1为第1传统实例相关之CD-RW(可重复读写光碟)方 式光碟的断面构造及光照射方法的模式图。 图2为第2传统实例相关之光碟的断面构造及光照 射方法的模式图。 图3为实施形态相关之光碟断面构造及光照射方法 的模式图。 图4(a)及4(b)为实施形态相关之光碟制造方法的制 造程序断面图。 图5(a)及5(b)为实施形态相关之光碟制造方法的制 造程序断面图。 图6(a)及6(b)为实施形态相关之光碟制造方法的制 造程序断面图。 图7(a)及7(b)为实施形态相关之光碟制造方法的制 造程序断面图。 图8为实施形态之光碟重要部位的斜视图。 图9为实施例1之颤动及推挽信号的测量结果。 图10为实施例2之摆动结构的一例之平面图。 图11为改变摆动结构振幅时之摆频信号的C/N比。 图12为实施例4之颤动的测量结果。 图13为本实施形态相关之光碟装置的光学选取(磁 头)用2群透镜之构成的模式断面图。 图14为本实施形态相关之光碟装置的光学选取(磁 头)之构成的模式图。 图15为实施形态相关之受光元件构成的平面图。 图16为实施形态相关之光碟装置的构成方块图。 |
