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经营范围
发明名称
溅镀靶用氧化铬粉末及溅镀靶
摘要
一种溅镀靶用氧化铬粉末,其特征在于,系硫为100wtppm以下之氧化铬所构成。一种含氧化铬或氧化铬5莫耳%以上之溅镀靶,其特征在于,该溅镀靶中之硫含量为100wtppm以下,且不计水分、碳、氮、硫之气体成分之纯度为99.95%以上。而提供一种溅镀靶用氧化铬粉末,该氧化铬本身之纯度高,且制造溅镀靶时可提升烧结密度,并且,使用该氧化铬粉末制造溅镀靶时,可提供一种结晶粒微细化、不会产生裂痕、均匀且致密之溅镀靶。
申请公布号
TW200704793
申请公布日期
2007.02.01
申请号
TW095111751
申请日期
2006.04.03
申请人
日?金属股份有限公司
发明人
高见英生;矢作政隆
分类号
C23C14/14(2006.01);C23C14/12(2006.01)
主分类号
C23C14/14(2006.01)
代理机构
代理人
桂齐恒;阎启泰
主权项
地址
日本
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