| 发明名称 |
形成铸模用组成物 |
| 摘要 |
本发明系揭示，去除部分设置于铸模表面上之薄膜，再去除铸模而制造奈米构造体之方法用的形成铸模用组成物，其中含有具有亲水性基之分子量500以上的有机化合物。 |
| 申请公布号 |
TW200704583 |
申请公布日期 |
2007.02.01 |
| 申请号 |
TW095114129 |
申请日期 |
2006.04.20 |
| 申请人 |
东京应化工业股份有限公司;独立行政法人理化学研究所 |
发明人 |
緖方寿幸;羽田英夫;藤川茂纪;国武丰喜 |
| 分类号 |
B82B3/00(2006.01);H01L21/027(2006.01) |
主分类号 |
B82B3/00(2006.01) |
| 代理机构 |
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代理人 |
林志刚 |
| 主权项 |
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| 地址 |
日本 |
