氧化物之选择性湿蚀刻

摘要

本发明系关于一种湿蚀刻组合物，其包含磺酸、膦酸、次膦酸或其任两者或两者以上之混合物及氟化物；及一种相对于氮化物、高氮含量氮氧化矽、金属、矽或矽化物选择性蚀刻氧化物的方法。该方法包含提供一基板，其包括氧化物，以及氮化物、高氮含量氮氧化矽、金属、矽或矽化物之一或多者，其中该氧化物系待蚀刻；将该蚀刻组合物施加于该基板，历时一段时间，该时间足以自该基板移除所需量之氧化物；及移除该蚀刻组合物，其中该氧化物经选择性地移除。