发明名称 清洗装置及液滴喷出装置、光电装置、光电装置之制造方法及电子机器
摘要 【课题】目的为:在擦拭液滴喷出装置之液滴喷头用的清洗单元中,可防止对清洗装置喷雾之洗净液之飞散至周边。【解决手段】于液滴喷出装置3之清洗单元100,配设带电电极203、吸附电极204及除电电刷207,由洗净液喷雾头161喷雾之洗净液经由带电电极203使其带电,带电之洗净液朝向吸附电极204被吸附,而涂敷于吸附电极204前方之清洗薄片101,因此可防止洗净液飞散至周边。
申请公布号 TWI272191 申请公布日期 2007.02.01
申请号 TW094104203 申请日期 2005.02.14
申请人 精工爱普生股份有限公司 发明人 森俊正;藤森和义
分类号 B41J2/165(2006.01);G02F1/1335(2006.01) 主分类号 B41J2/165(2006.01)
代理机构 代理人 林志刚 台北市中山区南京东路2段125号7楼
主权项 1.一种清洗装置,其特征为具备: 清洗薄片,用于擦拭液滴喷头之喷嘴面; 洗净液喷雾装置,可于上述擦拭之前对上述清洗薄 片表面之涂敷区域喷出洗净液予以涂敷; 带电电极,可使上述洗净液喷雾装置喷出之洗净液 带电;及 吸附电极,配置于上述清洗薄片之背面侧、和上述 带电电极对应。 2.如申请专利范围第1项之清洗装置,其中 另外具备除电装置,可除去被涂敷有洗净液之上述 清洗薄片之静电而使上述液滴喷头之喷嘴面不带 电。 3.如申请专利范围第1或2项之清洗装置,其中 上述吸附电极形成为,宽度仅稍微窄于上述清洗薄 片之薄片宽度。 4.如申请专利范围第1或2项之清洗装置,其中 上述吸附电极被分割为可个别施加电压之多数个 部分电极。 5.如申请专利范围第1或2项之清洗装置,其中 上述带电电极具有大略环状之形状可以包围喷出 之洗净液。 6.一种液滴喷出装置,其特征为具备: 申请专利范围第1至5项中任一项之清洗装置; 上述液滴喷头,可对工件喷出功能性液滴;及 X/Y移动机构,可使工件对上述液滴喷头朝X轴方向 与Y轴方向进行相对移动。 7.一种光电装置,其特征为: 使用申请专利范围第6项之液滴喷出装置由上述液 滴喷头对工件上喷出功能性液滴而形成薄膜部者 。 8.一种光电装置之制造方法,其特征为: 使用申请专利范围第6项之液滴喷出装置由上述液 滴喷头对工件上喷出功能性液滴而形成薄膜部者 。 9.一种电子机器,其特征为: 搭载有申请专利范围第7项之光电装置或申请专利 范围第8项之光电装置之制造方法所制造之光电装 置者。 图式简单说明: 图1:实施形态之描绘装置之平面模式图。 图2:实施形态之描绘装置之正面模式图。 图3:实施形态之喷头单元之构成说明图。 图4:功能性液滴喷头之外观斜视图。 图5:实施形态之清洗单元之外观斜视图。 图6:实施形态之清洗单元之外观正面图。 图7:实施形态之清洗单元之外观上面图。 图8:实施形态之清洗单元之内部构成之说明图。 图9:实施形态之框架单元之外观斜视图。 图10:实施形态之扫描平台之外观斜视图。 图11:实施形态之清洗单元之外观正面图。 图12:实施形态之清洗单元之外观上面图。 图13:实施形态之清洗单元之右侧面图。 图14:实施形态之静电涂敷单元之构成说明之模式 图,(a)为静电涂敷单元之构成,(b)为由洗净液喷雾 头侧看到之静电涂敷单元之构成。 图15:第2实施形态之说明模式图。 图16:彩色滤光片制造步骤之流程图。 图17(a)~(e):依制造步骤顺序表示之彩色滤光片之模 式断面图。 图18:使用本发明之彩色滤光片的液晶装置之概略 构成之重要部分断面图。 图19:使用本发明之彩色滤光片的第2例之液晶装置 之概略构成之重要部分断面图。 图20:使用本发明之彩色滤光片的第3例之液晶装置 之概略构成之重要部分断面图。 图21:有机EL装置之显示装置之重要部分断面图。 图22:有机EL装置之显示装置之制造步骤说明用之 流程图。 图23:无机物堤堰层之形成说明之步骤图。 图24:有机物堤堰层之形成说明之步骤图。 图25:电洞注入/输送层之形成过程说明之步骤图。 图26:形成有电洞注入/输送层之状态说明之步骤图 。 图27:蓝色发光层之形成过程说明之步骤图。 图28:形成有蓝色发光层之状态说明之步骤图。 图29:形成有各色发光层之状态说明之步骤图。 图30:阴极之形成说明之步骤图。 图31:电浆显示装置(PDP装置)之显示装置之重要部 分分解斜视图。 图32:电子放出装置(FED装置)之显示装置之重要部 分断面图。 图33(a):显示装置之电子放出部周围之平面图,(b)其 形成方法之平面图。
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