发明名称 PROCEDIMIENTO Y DISPOSITIVO PARA CALENTAMIENTO SIMULTANEO DE MATERIALES.
摘要 Procedimiento para el calentamiento simultaneo de materiales teniendo un contorno de calentamiento discrecional, esencialmente plano, mediante radiación láser, caracterizado porque el rayo láser (12) se inyecta mediante unos elementos ópticos (2 a 4) en dirección longitudinal en la pared de un tubo (5) transparente a la radiación IR que está formado de acuerdo con el contorno (9) deseado de calentamiento en el lado de salida (14), y porque el rayo láser que sale se reproduce posteriormente en el plano (8) de calentamiento mediante una lente convergente (7).
申请公布号 ES2265081(T3) 申请公布日期 2007.02.01
申请号 ES20030018970T 申请日期 2003.08.21
申请人 LEISTER PROCESS TECHNOLOGIES 发明人 CHEN, JIE WEI
分类号 B23K26/073;B23K26/04;B23K26/06;B23K26/08;B29C65/16;H01S3/00 主分类号 B23K26/073
代理机构 代理人
主权项
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