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发明名称 Slurry for CMP, methods for preparing the same, and methods for polishing substrate using the same
摘要
申请公布号 KR100674927(B1) 申请公布日期 2007.01.26
申请号 KR20040103634 申请日期 2004.12.09
申请人 发明人
分类号 C09K3/14 主分类号 C09K3/14
代理机构 代理人
主权项
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