摘要 |
Die Erfindung richtet sich auf eine Gesichtsaufstandsstruktur, insbesondere ein Stirnpolster für eine Atemmaskeneinrichtung. Atemmaskenanordnungen finden insbesondere Anwendung zur Verabreichung eines atembaren Gasgemisches, z. B. Umgebungsluft auf einem über dem Umgebungsdruck liegenden Druckniveau. Eine Zufuhr des Atemgases auf einem über dem Umgebungsdruck liegenden Druckniveau kann beispielsweise der Durchführung einer so genannten CPAP-Therapie zur Behandlung schlagbezogener Atmungsstörungen dienen. Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, Lösungen anzugeben, die es ermöglichen, eine Stirnpolstereinrichtung zu schaffen, die sich durch einen besonders hohen Tragekomfort auszeichnet und die auch unter fertigungstechnischen Gesichtspunkten hinreichend effizient und kostengünstig herstellbar ist. Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß gelöst durch ein Stirnpolster für eine Atemmaske mit einem im wesentlichen formsteifen ersten Schalenelement und einem mit diesem gekoppelten elastomeren zweiten Schalenelement, das als solches eine zur Kontaktierung einer Aufstandsfläche eines Anwenders vorgesehene Kontaktzone aufweist, sowie einem Füllmaterialaufnahmeraum, der sich innerhalb einer durch die beiden Schalenelemente gebildeten Kammer befindet.
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