METHOD AND DEVICE FOR MULTI-CATHODE-PVD-COATING AND SUBSTRATE HAVING PVD-COATING
摘要
<p>Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Betrieb einer Mehrkathoden-PVD-Beschichtungsanlage, wobei ein Teil der Kathoden nach der magnetfeldunterstützten Hochleistungs-Impuls-Kathodenzerstäubung und der Rest nach der magnetfeldunterstützten Kathodenzerstäubung mit Gleichstrom betrieben wird. Während der ionenunterstützten in vacuo Substratvorbehandlung wird alleine die magnetfeldunterstützte Hochleistungs-Impuls-Kathodenzerstäubung als Quelle mehrfach ionisierter Metall-Ionen benutzt, während bei der Beschichtung grundsätzlich beide Kathodenzerstäubungstypen simultan zum Einsatz gebracht werden und beide Kathodentypen mit unterschiedlichen Materialien belegt werden.</p>
申请公布号
WO2007009634(A1)
申请公布日期
2007.01.25
申请号
WO2006EP06768
申请日期
2006.07.11
申请人
SYSTEC SYSTEM- UND ANLAGENTECHNIK GMBH & CO. KG;MUENZ, WOLF-DIETER;HOFMANN, DIETER;KUNKEL, STEFAN;MANGOLD, JUERGEN;SCHUESSLER, HANS
发明人
MUENZ, WOLF-DIETER;HOFMANN, DIETER;KUNKEL, STEFAN;MANGOLD, JUERGEN;SCHUESSLER, HANS