| 发明名称 | 化学机械抛光液及其用途 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种化学机械抛光液，包括至少一种研磨颗粒和一种载体；其中，还包括至少一种金属腐蚀抑制剂；本发明还公开了本发明的化学机械抛光液在抛光金属中的用途。本发明的化学机械抛光液可大大降低金属表面缺陷，并可降低金属的除去速率，显著提高金属表面质量。 | ||
| 申请公布号 | CN1900206A | 申请公布日期 | 2007.01.24 |
| 申请号 | CN200510027988.1 | 申请日期 | 2005.07.21 |
| 申请人 | 安集微电子（上海）有限公司 | 发明人 | 荆建芬;杨春晓;肖正龙 |
| 分类号 | C09K3/14(2006.01);C25F3/16(2006.01) | 主分类号 | C09K3/14(2006.01) |
| 代理机构 | 上海虹桥正瀚律师事务所 | 代理人 | 李佳铭 |
| 主权项 | 1、一种化学机械抛光液，包括至少一种研磨颗粒和一种载体，其特征在于还包括至少一种金属腐蚀抑制剂。 | ||
| 地址 | 201203上海市龙东大道3000号5号楼613－618 | ||