| 发明名称 | 无掩模光刻实时图案光栅化和实现最佳特征表示的方法和系统 | ||
| 摘要 | 公开用于确定空间光调制器(SLM)的特定像素调制状态以便把所需图案印刷到衬底上的方法和系统。所述方法包括在所需图案的物平面上选择至少一个超像素，超像素由至少两个像素组成。所需图案的至少一条边缘与超像素中的边界交叉，所述至少一条边缘由与超像素有关的特定斜率和位置参数定义。所述方法还包括(i)形成插值表以便把预计算的像素调制状态列入插值表中和(ii)根据插值表确定每一个像素的特定像素调制状态。还公开提供空间光调制器(SLM)的方法和系统。SLM包括构造成形成超像素组的多个镜面。每一个超像素(i)包括多个镜面中的两个或两个以上镜面和(ii)配置成仅仅切换一个光像素。两个或两个以上镜面中的每一个可以单独启动。 | ||
| 申请公布号 | CN1900827A | 申请公布日期 | 2007.01.24 |
| 申请号 | CN200610100137.X | 申请日期 | 2006.06.29 |
| 申请人 | ASML控股有限公司;ASML荷兰有限公司 | 发明人 | A·M·拉蒂波夫;J·J·M·巴塞尔曼斯;K·Z·特罗斯特 |
| 分类号 | G03F7/20(2006.01);H01L21/00(2006.01);G02B26/08(2006.01) | 主分类号 | G03F7/20(2006.01) |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 杨凯;梁永 |
| 主权项 | 1.一种用于确定空间光调制器(SLM)的特定像素调制状态，以便把所需图案印刷到衬底上的方法，所述方法包括：在所需图案的物平面选择至少一个超像素，所述超像素由至少两个像素构成；其中所需图案的至少一条边缘与超像素中的边界交叉，所述至少一条边缘由与所述超像素有关的特定斜率和位置参数定义；形成插值表，以便预计算的像素调制状态列入表中；以及按照所述插值表确定每一个像素的所述特定像素调制状态。 | ||
| 地址 | 荷兰费尔德霍芬 | ||