提高PVD反应器中的等离子体活度的装置

摘要

本发明涉及在磁控管溅射反应器中提高等离子体活度的装置，所述磁控管溅射反应器含有要涂层的基片，在此，原等离子体由在基片和附加电极之间施加的DC或AC电压建立。通过从DC或AC电流或它们的组合加热的热丝出来的电子的热离子发射获得提高的等离子体活度。该装置对于增加在由硬质合金、高速钢、金属陶瓷、陶瓷制品或立方氮化硼制成的切削刀片上通过磁控管溅射沉积的各层的粘合性特别有用。

主权项

1.用于在涂层反应器中提高等离子体活度的装置，所述涂层反应器优选是PVD，并装有要涂层的基片，其中通过在所述基片和至少一个附加电极之间施加DC或AC电压建立原等离子体，其特征在于：包括热离子发射体，优选是呈一个长丝形状的丝，或是串联或并联连接的多个短丝，或其组合，该热离子发射体由DC或AC电流或它们的组合加热。