| 发明名称 | 用于光刻法的旋压玻璃抗反射涂层的吸收性化合物 | ||
| 摘要 | 作为有机光吸收化合物，使用了吸收性类醚化合物，其包含通过氧键连接到萘或者蒽发色团的硅乙氧基、硅二乙氧基或者硅三乙氧基物质。该吸收性类醚化合物被引入旋压玻璃材料，为深紫外光刻法提供抗反射涂层材料。合成该光吸收醚化合物的方法基于醇取代的发色团与乙酰氧基硅化合物在醇存在下的反应。还提供了制造包含吸收性类醚化合物的吸收性旋压玻璃材料的方法。 | ||
| 申请公布号 | CN1296435C | 申请公布日期 | 2007.01.24 |
| 申请号 | CN01813009.7 | 申请日期 | 2001.07.12 |
| 申请人 | 霍尼韦尔国际公司 | 发明人 | T·巴德温;M·里奇;J·德拉格;H·－J·吴;R·斯佩尔 |
| 分类号 | C08L83/04(2006.01) | 主分类号 | C08L83/04(2006.01) |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 王景朝;郭广迅 |
| 主权项 | 1.一种可结合的吸收性类醚化合物，其包含硅烷氧基部分、至少一个苯环和连接所述硅烷氧基部分的烷氧基键，该吸收性类醚化合物具有通式C14H9(CH2)nOSiRm(OC2H5)3-m或者C10H8(CH2)nOSiRm(OC2H5)3-m，其中n＝1-3，m＝0-2，和R是氢或者烷基基团。 | ||
| 地址 | 美国新泽西州 | ||