发明名称 |
用于垂直记录的写入极制造 |
摘要 |
一种制造拖尾防护写入极的方法和材料,其解决了控制写入间隙和避免在后续结构的制造期间对写入间隙或极的损害的问题。此过程还介绍了移除再沉积和围层(增加产量)的CMP协助剥离过程,以及在写入极的顶端中创建凹坑的方法。此外,此公开中还包括可起到离子铣削转移层、CMP层、以及可RIE层的作用的适合材料。 |
申请公布号 |
CN1296892C |
申请公布日期 |
2007.01.24 |
申请号 |
CN200410082674.7 |
申请日期 |
2004.09.27 |
申请人 |
日立环球储存科技荷兰有限公司 |
发明人 |
李邝;李显邦;李瑞隆;阿伦·彭特克;孙年祥 |
分类号 |
G11B5/127(2006.01);G11B5/33(2006.01) |
主分类号 |
G11B5/127(2006.01) |
代理机构 |
北京市柳沈律师事务所 |
代理人 |
邸万奎;黄小临 |
主权项 |
1、一种用于形成具有气垫表面(ABS)的写入头的方法,包括:形成通量整形层;在该整形层上形成极尖层,该整形层用于将通量汇聚到极尖层;在极尖层上形成掩模层,该掩模层比极尖层有更强的抗铣削性;在掩模层上形成抗蚀层;对抗蚀层形成图案,形成图案的抗蚀层限定了极尖在与头的ABS平行的方向上大致的最大宽度;移除未被形成图案的抗蚀层覆盖的掩模层的部分;铣削,以使极尖从极尖层成形;在极尖和通量整形层上沉积介电材料层,其中,介电材料层延伸到大致与掩模层相邻;在介电材料上沉积停止层,停止层邻接掩模层;抛光,以形成由掩模层和停止层构成的基本上平坦的上表面;在极尖上形成期望厚度的间隙层;以及在间隙层上形成拖尾防护。 |
地址 |
荷兰阿姆斯特丹 |