| 主权项 |
1、一种自辉光等离子体基离子注入或者注入且沉积装置，包括：注入元素蒸发系统(1)，注入元素导入系统(2)，离化和注入或者注入且沉积系统(3)，真空系统(4)，其特征在于，注入元素蒸发系统(1)连接到注入元素导入系统(2)，注入元素导入系统(2)再连接到离化和注入或者注入且沉积系统(3)，离化和注入或者注入且沉积系统(3)位于真空系统(4)内部，离化和注入或者注入且沉积系统(3)或者直接连接到真空排气装置上；对于低熔点高蒸汽压固态物质元素，注入元素蒸发系统(1)包括：加热腔体(5)、源加热装置(6)、加热腔体外屏蔽罩(7)、载气导入孔(8)、蒸汽导出孔(9)，其连接关系为：源加热装置(6)连接在加热腔体(5)外部，源加热装置(6)外部有加热腔体外屏蔽罩(7)，加热腔体(5)连接到一个载气导入孔(8)，加热腔体(5)通过蒸汽导出孔(9)连接在注入元素导入系统(2)，在蒸汽导出孔(9)外面，或者设置加热装置，该加热装置是独立的加热装置，或者与加热腔体(5)共用源加热装置(6)；对于本身就是气态或者汽态的注入物质注入元素蒸发系统(1)，是一个连接到注入元素导入系统(2)的管道；所述的离化和注入或者注入且沉积系统(3)包括一个空心阳极(15)，一个离化和注入或者注入且沉积腔体(16)，工件靶台(17)，靶台支架(18)，工件(19)，其连接关系为：空心阳极(15)连接到外部高压电源的正高压端，空心阳极(15)的外面，是离化和注入或者注入且沉积腔体(16)，离化和注入或者注入且沉积腔体(16)中，设置一个比空心阳极(15)的表面积大的导电或者局部导电的工件靶台(17)作为阴极，工件靶台(17)是平面形状或球面形状，工件(19)放在工件靶台(17)上，工件靶台(17)通过靶台支架(18)连接到外部高压电的负高压端。 |
