| 发明名称 | 用于形成构图涂覆膜的方法和设备 | ||
| 摘要 | 一种诸如光生伏打电池或OLED的电致发光器件。所述电致发光器件(100)包括至少一个电极(110)和设置在所述至少一个电极(110)上的电致发光层(120)。所述电致发光层(120)包括电致发光聚合物材料，电致发光层(120)具有设置在与所述电极(110)邻接的表面上的第一图案(130)。所述电致发光层(120)具有基本均匀的厚度。还公开了一种通过沿相切方向(210)溶解和擦拭而对这样的电致发光层(单层或多层)(120)进行均匀构图的设备和方法。 | ||
| 申请公布号 | CN1902770A | 申请公布日期 | 2007.01.24 |
| 申请号 | CN200480040378.9 | 申请日期 | 2004.11.08 |
| 申请人 | 通用电气公司 | 发明人 | 哈克·F·庞;丹尼斯·J·科伊尔;斯维特拉纳·罗戈杰维克 |
| 分类号 | H01L51/40(2006.01) | 主分类号 | H01L51/40(2006.01) |
| 代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人 | 陶凤波;侯宇 |
| 主权项 | 1.一种电致发光器件(100)，所述电致发光器件(100)包括：a)至少一个电极(110)；以及b)设置在所述至少一个电极(110)上的电致发光层(120)，其中，所述电致发光层(120)包括电致发光聚合物材料，并且其中，所述电致发光层(120)具有设置在与所述至少一个电极(110)邻接的表面上的第一图案(130)，并且具有基本均匀的厚度。 | ||
| 地址 | 美国纽约州 | ||