| 发明名称 | 在沟槽蚀刻中降低线条边缘粗糙度 | ||
| 摘要 | 提供一种在衬底(图3B，304)上的介质层(图2B，308)中将沟槽(图3B，314)蚀刻到沟槽深度(图3B，318)的方法。将ARC(图3B，310)加到介质层(图2B，308)上。在ARC(图3B，310)上形成光致抗蚀剂掩模(图3B，312)，其中光致抗蚀剂掩模具有厚度。以贯穿方式蚀刻ARC。将沟槽(图3B，314)蚀刻到介质层中，介质对光致抗蚀剂的蚀刻选择性在1∶1和2∶1之间。 | ||
| 申请公布号 | CN1902745A | 申请公布日期 | 2007.01.24 |
| 申请号 | CN200480040167.5 | 申请日期 | 2004.11.03 |
| 申请人 | 兰姆研究有限公司 | 发明人 | E·沃加纳;H·H·朱;D·乐;P·勒温哈德特 |
| 分类号 | H01L21/4763(2006.01) | 主分类号 | H01L21/4763(2006.01) |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 杨凯;染永 |
| 主权项 | 1.一种在衬底上的介质层中将沟槽蚀刻到沟槽深度的方法，所述方法包括：在所述介质层上加ARC；在所述ARC上形成光致抗蚀剂掩模，其中所述光致抗蚀剂掩模具有厚度；以贯穿方式蚀刻所述ARC；以及将沟槽蚀刻到所述介质层中，介质对光致抗蚀剂的蚀刻选择性在1∶1和2∶1之间。 | ||
| 地址 | 美国加利福尼亚州 | ||