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发明名称 Planarization of a non-conformal device layer in semiconductor fabrication
摘要
申请公布号 EP0905756(B1) 申请公布日期 2007.01.24
申请号 EP19980307871 申请日期 1998.09.29
申请人 INFINEON TECHNOLOGIES AG;INTERNATIONAL BUSINESS MACHINES CORPORATION 发明人 VARIAN, KATHRYN H.;TOBBEN, DIRK;SENDELBACH, MATTHEW
分类号 H01L21/302;H01L21/3105;H01L21/3065;H01L21/3205;H01L21/762;H01L21/768;H01L23/522 主分类号 H01L21/302
代理机构 代理人
主权项
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